Invention Publication
- Patent Title: 保护层用有机金属化合物、保护层、有机半导体层的加工方法以及有机半导体器件的制造方法
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Application No.: CN202280056602.1Application Date: 2022-08-09
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Publication No.: CN117858868APublication Date: 2024-04-09
- Inventor: 吉安唯 , 竹田恭子 , 高畑正利 , 川上祥子 , 铃木恒德 , 佐佐木俊毅 , 桥本直明 , 青山智哉
- Applicant: 株式会社半导体能源研究所
- Applicant Address: 日本神奈川县厚木市
- Assignee: 株式会社半导体能源研究所
- Current Assignee: 株式会社半导体能源研究所
- Current Assignee Address: 日本神奈川县厚木市
- Agency: 中国专利代理(香港)有限公司
- Agent 童春媛; 林毅斌
- Priority: 2021-134775 20210820 JP
- International Application: PCT/IB2022/057396 2022.08.09
- International Announcement: WO2023/021371 JA 2023.02.23
- Date entered country: 2024-02-19
- Main IPC: C07D215/30
- IPC: C07D215/30 ; H10K50/10 ; H10K50/844 ; H10K71/00 ; C07D215/36 ; C07D235/18 ; C07D241/42 ; C07D213/22 ; C07F5/06 ; H10K50/00 ; H10K85/30

Abstract:
提高有机半导体器件的耐热性,该有机半导体器件包括在有机半导体层上以其接触的方式形成氧化铝膜的工序。在有机半导体层上设置包含以下述通式(G1)表示的有机半导体层的掩模用有机金属化合物的层,然后进行加热工序。#imgabs0#(在通式(G1)中,Ar表示取代或未取代的碳原子数为6至30的芳基或者取代或未取代的碳原子数为1至30的杂芳基,X表示氧或硫,M表示金属,n表示1至5的整数,金属M的化合价与n相同。注意,在n为2以上的情况下,多个Ar也可以相同或不同,X也可以相同或不同。在Ar为取代或未取代的碳原子数为1至30的杂芳基的情况下,杂芳基的杂原子也可以与金属M配位键合)。
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