发明公开
CN117916854A 窄线切割掩模方法
审中-实审
- 专利标题: 窄线切割掩模方法
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申请号: CN202280058206.2申请日: 2022-08-25
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公开(公告)号: CN117916854A公开(公告)日: 2024-04-19
- 发明人: 布伦南·彼得森 , 菲利普·D·胡斯塔德
- 申请人: 杰米纳蒂奥公司
- 申请人地址: 美国纽约州
- 专利权人: 杰米纳蒂奥公司
- 当前专利权人: 杰米纳蒂奥公司
- 当前专利权人地址: 美国纽约州
- 代理机构: 北京清亦华知识产权代理事务所
- 代理商 宋融冰
- 优先权: 63/236,855 20210825 US 63/236,855 20210825 US
- 国际申请: PCT/US2022/041545 2022.08.25
- 国际公布: WO2023/028243 EN 2023.03.02
- 进入国家日期: 2024-02-26
- 主分类号: H01L21/027
- IPC分类号: H01L21/027 ; H01L21/308 ; G03F7/16 ; G03F7/004 ; G03F7/038 ; G03F7/039 ; G03F7/09 ; G03F7/32
摘要:
一种对基板进行图案化的方法包括在基板上提供第一浮雕图案,其中第一浮雕图案包括第一抗蚀剂,用溶解度转变剂涂布第一浮雕图案,在第一浮雕图案上沉积第二抗蚀剂,使得第二抗蚀剂与第一浮雕图案接触,以及使溶解度转变剂以预定距离扩散到第二抗蚀剂中,以提供第二抗蚀剂的溶解度转变区域。第二抗蚀剂的溶解度转变区域与第一浮雕图案接界。然后,该方法包括对第二抗蚀剂进行显影,使得溶解度转变区域被溶解,从而在第一浮雕图案和第二抗蚀剂之间提供间隙,在该间隙处,基板的一部分被暴露出,以及使用第一浮雕图案和第二抗蚀剂作为组合的蚀刻掩模对基板进行蚀刻。
IPC分类: