公开(公告)号：CN117916853A

公开(公告)日：2024-04-19

申请号：CN202280058191.X

申请日：2022-08-25

申请人： 杰米纳蒂奥公司

发明人： 布伦南·彼得森 ,  菲利普·D·胡斯塔德

IPC分类号： H01L21/027 ,  H01L21/32 ,  H01L21/3205 ,  G03F7/004 ,  G03F7/075 ,  G03F7/09

摘要： 一种微制造的方法包括在目标层上提供第一浮雕图案，其中该第一浮雕图案包括具有第一蚀刻选择性的第一抗蚀剂，用溶解度转变剂涂布第一浮雕图案，将第二抗蚀剂沉积在第一浮雕图案上，其中该第二抗蚀剂具有与第一蚀刻选择性不同的第二蚀刻选择性，使溶解度转变剂扩散到第二抗蚀剂中以提供第二抗蚀剂的溶解度转变区域，对第二抗蚀剂进行显影，使得溶解度转变区域被溶解，从而在第一浮雕图案和第二抗蚀剂之间提供间隙，在其中目标层的一部分被暴露，以及用填充材料填充在第一浮雕图案和第二抗蚀剂之间的间隙。

公开(公告)号：CN117941029A

公开(公告)日：2024-04-26

申请号：CN202280058182.0

申请日：2022-08-25

申请人： 杰米纳蒂奥公司

发明人： 布伦南·彼得森 ,  菲利普·D·胡斯塔德

IPC分类号： H01L21/033 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/32

摘要： 一种微制造方法包括在基板上提供第一浮雕图案，在第一浮雕图案中形成含碳侧壁间隔件，移除第一浮雕图案，以及用溶解度转变剂涂布含碳侧壁间隔件。然后，该方法包括在含碳侧壁间隔件上沉积第一聚合物填充物，使溶解度转变剂以预定距离扩散到第一聚合物填充物中，以提供第一聚合物填充物的溶解度转变区域，其中第一聚合物填充物的溶解度转变区域与含碳侧壁间隔件接界，以及对第一聚合物填充物进行显影，使得溶解度转变区域被溶解，从而在含碳侧壁间隔件和第一聚合物填充物之间提供沟槽，在所述沟槽处暴露出基板的一部分。

公开(公告)号：CN117916855A

公开(公告)日：2024-04-19

申请号：CN202280058212.8

申请日：2022-08-25

申请人： 杰米纳蒂奥公司

发明人： 布伦南·彼得森 ,  菲利普·D·胡斯塔德

IPC分类号： H01L21/027 ,  H01L21/3213 ,  G03F7/004 ,  G03F7/09 ,  G03F7/32

摘要： 一种微制造方法，包括在基底的目标层上形成第一浮雕图案，用第一溶解度转变剂涂布第一浮雕图案，将第一聚合物填充物层叠在第一浮雕图案上，以及使第一溶解度转变剂扩散到第一聚合物填充物中以提供第一聚合物填充物的溶解度转变区域。然后，该方法包括在第一浮雕图案上形成第二浮雕图案，用第二溶解度转变剂涂布第二浮雕图案，将第二聚合物填充物层叠在第二浮雕图案上，以及使第二溶解度转变剂扩散到第二聚合物填充物中以提供第二聚合物填充物的溶解度转变区域。最后，对第一聚合物填充物和第二聚合物填充物的溶解度转变区域进行显影并蚀刻目标层。

公开(公告)号：CN117916851A

公开(公告)日：2024-04-19

申请号：CN202280057970.8

申请日：2022-08-25

申请人： 杰米纳蒂奥公司

发明人： 布伦南·彼得森 ,  菲利普·D·胡斯塔德

IPC分类号： H01L21/027 ,  G03F7/004 ,  G03F7/09 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/32

摘要： 描述了一种对基底进行图案化的方法。该方法包括以下步骤：在基底上提供抗蚀剂层；随后使该抗蚀剂暴露于光化辐射的第一图案以在抗蚀剂层中形成潜像；并使抗蚀剂层暴露于光化辐射的第二图案以在抗蚀剂层中形成第二潜像，其中第一潜像与第二潜像相邻。该方法还包括对抗蚀剂层进行显影以形成浮雕图案，浮雕图案包括对应于光化辐射的第一图案的第一组沟槽和对应于光化辐射的第二图案的第二组沟槽，其中第一组沟槽和第二组沟槽不连续。接下来，方法包括用溶解度转变剂涂布浮雕图案，接着使溶解度转变剂以预定距离扩散到抗蚀剂层中，其中该抗蚀剂的溶解度转变区域与第一浮雕图案接界，以及最后对抗蚀剂层进行显影以将第一组沟槽和第二组沟槽拼接在一起。

公开(公告)号：CN118251759A

公开(公告)日：2024-06-25

申请号：CN202280070785.2

申请日：2022-10-25

申请人： 杰米纳蒂奥公司

发明人： 布伦南·彼得森 ,  菲利普·D·胡斯塔德

IPC分类号： H01L21/768 ,  H01L21/288

摘要： 一种微制造的方法包括提供具有形成在第一层内的特征的现有图案的基板，在基板上沉积选择性附着剂，其中选择性附着剂附着至特征并且包括溶解度转变剂，在基板上沉积第一抗蚀剂，使溶解度转变剂活化，使得特征上的第一抗蚀剂的部分变得可溶于第一显影剂，使用第一显影剂对第一抗蚀剂进行显影，从而形成具有暴露现有层的特征的开口的浮雕图案，在特征上和浮雕图案的开口内生长选择性生长材料以提供自对准的选择性生长特征，除去第一抗蚀剂，在基板上沉积填充层，以及重复这些步骤预定次数以提供包括预定层数的堆叠设备。

公开(公告)号：CN117941028A

公开(公告)日：2024-04-26

申请号：CN202280058163.8

申请日：2022-08-25

申请人： 杰米纳蒂奥公司

发明人： 布伦南·彼得森 ,  菲利普·D·胡斯塔德

IPC分类号： H01L21/027 ,  H01L21/288 ,  G03F7/004 ,  G03F7/09 ,  G03F7/32

摘要： 一种微加工方法，包括：提供具有现有图案的衬底，其中现有图案包括形成在基层内的特征，使得衬底的顶表面具有未被覆盖的特征并且基层未被覆盖；在衬底上沉积选择性附着剂，其中选择性附着剂包含溶解度转变剂；在衬底上沉积第一抗蚀剂；活化溶解度转变剂，使得第一抗蚀剂的部分变得不溶于第一显影剂；使用第一显影剂对第一抗蚀剂进行显影，从而形成包括开口的浮雕图案，其中该开口暴露现有层的特征；和执行选择性生长工艺，在特征上和浮雕图案的开口内生长选择性沉积材料，以提供自对准选择性沉积特征。

公开(公告)号：CN117916852A

公开(公告)日：2024-04-19

申请号：CN202280058153.4

申请日：2022-08-25

申请人： 杰米纳蒂奥公司

发明人： 布伦南·彼得森 ,  菲利普·D·胡斯塔德

IPC分类号： H01L21/027 ,  H01L21/3105 ,  G03F7/004 ,  G03F7/075 ,  G03F7/09

摘要： 一种微加工方法，包括：提供具有现有图案的衬底，其中现有图案包括形成在基层内的特征，使得衬底的顶表面具有未被覆盖的特征并且基层未被覆盖；在衬底上沉积选择性附着剂，其中选择性附着剂包含溶解度转变剂；在衬底上沉积第一抗蚀剂；活化溶解度转变剂，使得第一抗蚀剂的部分变得不溶于第一显影剂；和使用第一显影剂对第一抗蚀剂进行显影，使得第一抗蚀剂的不溶于第一显影剂的部分得以保留。

公开(公告)号：CN117916668A

公开(公告)日：2024-04-19

申请号：CN202280058098.9

申请日：2022-08-25

申请人： 杰米纳蒂奥公司

发明人： 布伦南·彼得森 ,  菲利普·D·胡斯塔德

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G03F7/004 ,  G03F7/105 ,  G03F7/09

摘要： 一种微制造的方法包括在基底上沉积包含第一化学标记物的第一抗蚀剂的第一层、由所述第一荧光化学标记物测量所述第一层的第一荧光强度、由所述第一抗蚀剂的第一层形成第一浮雕图案以及在形成所述第一浮雕图案之后由所述第一化学标记物测量所述第一层的第二荧光强度。然后，所述方法包括将溶解度转变剂沉积在所述第一浮雕图案上、将第二抗蚀剂沉积在第一浮雕图案上、使所述溶解度转变剂扩散到所述第二抗蚀剂中以提供所述第二抗蚀剂的溶解度转变区域、对所述第二抗蚀剂进行显影以使得所述第二抗蚀剂的溶解度转变区域被溶解并且使所述基底的一部分暴露以及由所述第一化学标记物测量所述第一层的第三荧光强度。

公开(公告)号：CN117916854A

公开(公告)日：2024-04-19

申请号：CN202280058206.2

申请日：2022-08-25

申请人： 杰米纳蒂奥公司

发明人： 布伦南·彼得森 ,  菲利普·D·胡斯塔德

IPC分类号： H01L21/027 ,  H01L21/308 ,  G03F7/16 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/09 ,  G03F7/32

摘要： 一种对基板进行图案化的方法包括在基板上提供第一浮雕图案，其中第一浮雕图案包括第一抗蚀剂，用溶解度转变剂涂布第一浮雕图案，在第一浮雕图案上沉积第二抗蚀剂，使得第二抗蚀剂与第一浮雕图案接触，以及使溶解度转变剂以预定距离扩散到第二抗蚀剂中，以提供第二抗蚀剂的溶解度转变区域。第二抗蚀剂的溶解度转变区域与第一浮雕图案接界。然后，该方法包括对第二抗蚀剂进行显影，使得溶解度转变区域被溶解，从而在第一浮雕图案和第二抗蚀剂之间提供间隙，在该间隙处，基板的一部分被暴露出，以及使用第一浮雕图案和第二抗蚀剂作为组合的蚀刻掩模对基板进行蚀刻。

公开(公告)号：CN118215986A

公开(公告)日：2024-06-18

申请号：CN202280070783.3

申请日：2022-10-25

申请人： 杰米纳蒂奥公司

发明人： 布伦南·彼得森 ,  菲利普·D·胡斯塔德

IPC分类号： H01L21/027 ,  G03F7/11

摘要： 一种图案化基板的方法包括在基板上沉积底层，用溶解度转变剂涂布底层，在基板上层叠光致抗蚀剂，使得光致抗蚀剂覆盖溶解度转变剂，并且将溶解度转变剂以预定距离扩散至光致抗蚀剂中，以提供光致抗蚀剂的溶解度转变区域，其中溶解度转变区域在光致抗蚀剂的底部部分中形成底脚层。然后，该方法包括将光致抗蚀剂暴露于光化辐射的图案，对光致抗蚀剂进行显影以在底脚层上形成浮雕图案，其中浮雕图案包括由间隙分隔开的结构，以及蚀刻基板以除去间隙下的底脚层的部分，从而提供均匀的结构。