发明公开
- 专利标题: 表面氧化结合羟基化改性的碳化硅陶瓷膏料及其制备方法
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申请号: CN202211462099.8申请日: 2022-11-17
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公开(公告)号: CN118084496A公开(公告)日: 2024-05-28
- 发明人: 卢秉恒 , 刘荣臻 , 董文彩 , 李浩
- 申请人: 西安增材制造国家研究院有限公司
- 申请人地址: 陕西省西安市高新区上林苑八路997号
- 专利权人: 西安增材制造国家研究院有限公司
- 当前专利权人: 西安增材制造国家研究院有限公司
- 当前专利权人地址: 陕西省西安市高新区上林苑八路997号
- 代理机构: 西安通大专利代理有限责任公司
- 代理商 张宇鸽
- 主分类号: C04B35/565
- IPC分类号: C04B35/565 ; C04B35/626 ; C04B35/632 ; B33Y70/10
摘要:
本发明公开了一种表面氧化结合羟基化改性的碳化硅陶瓷膏料及其制备方法,属于碳化硅陶瓷材料改性技术领域。本发明公开的制备方法,首先将不同粒径的SiC粉末进行加热氧化处理,随后将氧化后的SiC粉末进行羟基化改性处理,确定了不同氧化工艺下碳化硅的氧化度,提高粉末表面的羟基基团数量,提高KH560在SiC粉末表面的结合数量和结合强度,提高膏料的分散性并降低膏料的粘度,SiC粉末表面氧化结合羟基化改性与KH560表面处理制备得到的SiC粉末,所配置的膏料,其固化深度提高,过固化宽度降低,具有广阔的应用前景。
IPC分类: