发明公开
- 专利标题: 一种半导体器件及其制造方法、电子设备
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申请号: CN202410538489.1申请日: 2024-04-30
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公开(公告)号: CN118139413A公开(公告)日: 2024-06-04
- 发明人: 孟敬恒 , 王祥升 , 王桂磊 , 赵超
- 申请人: 北京超弦存储器研究院
- 申请人地址: 北京市大兴区北京经济技术开发区科创十街18号院11号楼四层401室
- 专利权人: 北京超弦存储器研究院
- 当前专利权人: 北京超弦存储器研究院
- 当前专利权人地址: 北京市大兴区北京经济技术开发区科创十街18号院11号楼四层401室
- 代理机构: 北京安信方达知识产权代理有限公司
- 代理商 吴凤凰; 何妮
- 主分类号: H10B41/40
- IPC分类号: H10B41/40 ; H10B41/10
摘要:
半导体器件及其制造方法、电子设备,半导体器件包括:分布于不同层的多个晶体管,垂直延伸的字线;晶体管包括沿第一方向延伸的半导体柱,半导体柱第一区、沟道区和第二区;半导体器件还包括间隔不同行的晶体管的沟槽,沟槽中设置有第一隔离层和第二隔离层,第一隔离层分布于字线背离沟道区一侧的侧壁;第一隔离层将沟槽间隔出第一孔和第二孔,第一隔离层、字线与衬底间存在横向孔;第一孔和第二孔通过横向孔连通,第二隔离层在第一孔、第二孔和横向孔中连续延伸。本实施例提供的方案,增大了字线和衬底之间的距离,减少漏电,且通过互相连通的第一孔、第二孔和横向孔,便于一次性刻蚀去除不同行的晶体管之间的字线,降低了工艺难度。
公开/授权文献
- CN118139413B 一种半导体器件及其制造方法、电子设备 公开/授权日:2024-07-09