- 专利标题: 一种半导体气态分子污染物空间分布管理系统及方法
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申请号: CN202410631345.0申请日: 2024-05-21
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公开(公告)号: CN118211942B公开(公告)日: 2024-07-30
- 发明人: 江大白 , 王枫 , 胡增 , 赵洪章
- 申请人: 中用科技有限公司
- 申请人地址: 安徽省合肥市经济技术开发区宿松路3963号智能装备科技园E栋12层
- 专利权人: 中用科技有限公司
- 当前专利权人: 中用科技有限公司
- 当前专利权人地址: 安徽省合肥市经济技术开发区宿松路3963号智能装备科技园E栋12层
- 代理机构: 北京国源中科知识产权代理事务所
- 代理商 王少勇
- 主分类号: G06Q10/10
- IPC分类号: G06Q10/10 ; G06Q10/063 ; G06Q50/04 ; G06F18/21 ; G06F18/213 ; G06F18/20 ; G06T17/00 ; G06N3/006 ; G06F18/2433
摘要:
本发明涉及气态分子污染物采样管理的技术领域,且公开了一种半导体气态分子污染物空间分布管理系统及方法,所述系统包括气态分子污染物特征参数获取管理模块、气态分子污染物异常浓度识别管理模块、气态分子污染物异常浓度可视化管理模块;利用空间模型构建算法对气态分子污染物浓度异常采样点空间坐标参数进行气态分子污染物三维空间形态精确建模,实现异常气态分子污染物空间形态直观、科学化反馈;将异常气态分子污染物浓度特征参数与异常气态分子污染物三维空间云模型进行匹配,实现异常气态分子污染物浓度参数和空间形态分布组合可视化展示,实现气态分子污染物采样的精准采样。
公开/授权文献
- CN118211942A 一种半导体气态分子污染物空间分布管理系统及方法 公开/授权日:2024-06-18