Invention Publication
- Patent Title: 一种平面溅射靶材的绑定方法
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Application No.: CN202410349567.3Application Date: 2024-03-26
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Publication No.: CN118326345APublication Date: 2024-07-12
- Inventor: 李思勰 , 闻明 , 王传军 , 何云帅 , 许永刚 , 普志辉 , 杨建明 , 彭海
- Applicant: 云南省贵金属新材料控股集团股份有限公司 , 昆明贵金属研究所
- Applicant Address: 云南省昆明市高新技术产业开发区科技路988号;
- Assignee: 云南省贵金属新材料控股集团股份有限公司,昆明贵金属研究所
- Current Assignee: 云南省贵金属新材料控股集团股份有限公司,昆明贵金属研究所
- Current Assignee Address: 云南省昆明市高新技术产业开发区科技路988号;
- Agency: 昆明今威专利商标代理有限公司
- Agent 赛晓刚
- Main IPC: C23C14/34
- IPC: C23C14/34

Abstract:
本发明公开了一种平面溅射靶材的绑定方法,该方法包括:首先对待绑定的绑定面进行表面处理,分别涂抹高分子胶粘剂,再依次将金属铜网和靶坯放置于背板上,将靶材组件压合后再进行加热以加快固化,最后对固化冷却后的靶材组件进行机加工,得到高分子胶粘绑定的平面溅射靶材组件。采用上述方法绑定的平面溅射靶材焊缝处均匀、无空洞,焊合率>95%,导电性及散热性良好,焊接抗剪切强度≥15MPa,机加工边角料中高分子胶粘剂碎屑容易去除,旧靶材回收时对靶坯及背板不会造成破坏,特别对于贵金属溅射靶材,能够有效提高贵金属回收率、降低贵金属损耗。
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