- 专利标题: 一种石墨烯修饰高熵合金中子靶及其制备方法
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申请号: CN202410757328.1申请日: 2024-06-13
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公开(公告)号: CN118335362A公开(公告)日: 2024-07-12
- 发明人: 郁杰 , 陈兆睿 , 李刚 , 卓威 , 孙永菊
- 申请人: 中国科学院合肥物质科学研究院
- 申请人地址: 安徽省合肥市蜀山区蜀山湖路350号
- 专利权人: 中国科学院合肥物质科学研究院
- 当前专利权人: 中国科学院合肥物质科学研究院
- 当前专利权人地址: 安徽省合肥市蜀山区蜀山湖路350号
- 代理机构: 北京润平知识产权代理有限公司
- 代理商 丁勇
- 主分类号: G21B1/19
- IPC分类号: G21B1/19 ; G21G4/02 ; C23C14/16 ; C22C30/00 ; C23C14/35
摘要:
本发明提供了一种石墨烯修饰高熵合金中子靶及其制备方法,所述石墨烯修饰高熵合金中子靶包括依次排列的基底、缓冲层、储氘层和催化层;其中,所述储氘层含有镁、钛、锆、钒、铌、铬和石墨烯;所述储氘层的分子通式为MgaTibZrcVdNbeCrfCg;所述储氘层各元素的原子浓度为15≤a≤35at%,15≤b≤35at%,5≤c≤35at%,5≤d≤20at%,5≤e≤20at%,5≤f≤20at%,1≤g≤10at%,且a+b+c+d+e+f+g=100;该石墨烯修饰高熵合金中子靶具有高吸氢密度及吸氢稳定性,高放氢温度,高散热效率,不易开裂粉化的优异特点,同时,该石墨烯修饰高熵合金中子靶的制备方法成本低,工艺简单。
公开/授权文献
- CN118335362B 一种石墨烯修饰高熵合金中子靶及其制备方法 公开/授权日:2024-08-30