发明公开
CN118571883A 探测基板及探测装置
审中-实审
- 专利标题: 探测基板及探测装置
-
申请号: CN202410704126.0申请日: 2024-05-31
-
公开(公告)号: CN118571883A公开(公告)日: 2024-08-30
- 发明人: 王震 , 张鹏 , 张冠 , 吴申康 , 李晓东 , 马健 , 李良杰 , 刘琨 , 田露
- 申请人: 北京京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
- 申请人地址: 北京市大兴区北京经济技术开发区西环中路8号;
- 专利权人: 北京京东方光电科技有限公司,京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人: 北京京东方光电科技有限公司,京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市大兴区北京经济技术开发区西环中路8号;
- 代理机构: 北京润泽恒知识产权代理有限公司
- 代理商 张翠蓬
- 主分类号: H01L27/12
- IPC分类号: H01L27/12 ; H01L27/144
摘要:
本公开提供了一种探测基板及探测装置,涉及光电技术领域,探测基板,包括:衬底基板,以及设置在衬底基板一侧的探测区和非探测区,探测区包括多个探测单元,探测单元包括:薄膜晶体管;感光器件,位于薄膜晶体管远离衬底基板的一侧,包括依次层叠设置的第一电极、光电二极管以及第二电极,第一电极靠近薄膜晶体管设置,第一电极和第二电极分别与光电二极管连接,第一电极还与薄膜晶体管的第一极连接;第二电极背离衬底基板的表面上设置有绝缘层,在绝缘层与第二电极之间无其它膜层设置,在衬底基板上的正投影中,位于探测单元内的绝缘层没有设置过孔。
IPC分类: