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公开(公告)号：CN118571883A
公开(公告)日：2024-08-30
申请号：CN202410704126.0
申请日：2024-05-31
申请人： 北京京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： H01L27/12 , H01L27/144
摘要： 本公开提供了一种探测基板及探测装置，涉及光电技术领域，探测基板，包括：衬底基板，以及设置在衬底基板一侧的探测区和非探测区，探测区包括多个探测单元，探测单元包括：薄膜晶体管；感光器件，位于薄膜晶体管远离衬底基板的一侧，包括依次层叠设置的第一电极、光电二极管以及第二电极，第一电极靠近薄膜晶体管设置，第一电极和第二电极分别与光电二极管连接，第一电极还与薄膜晶体管的第一极连接；第二电极背离衬底基板的表面上设置有绝缘层，在绝缘层与第二电极之间无其它膜层设置，在衬底基板上的正投影中，位于探测单元内的绝缘层没有设置过孔。
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公开(公告)号：CN118486697A
公开(公告)日：2024-08-13
申请号：CN202410538211.4
申请日：2024-04-30
申请人： 北京京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： H01L27/146 , H01L27/12
摘要： 本发明公开了一种纹路识别基板及其制作方法，纹路识别基板包括：衬底、线路层、SiNx叠层和光电二极管。线路层位于衬底的一侧。SiNx叠层位于线路层背离衬底的一侧。光电二极管位于SiNx叠层背离线路层的一侧。光电二极管通过贯穿SiNx叠层的第一过孔与线路层的线路连接。其中沿远离衬底的方向，SiNx叠层中Si的质量分数具有先减小后增加的趋势。SiNx叠层的表面层的硅含量较高，膜质较为致密，从而可以减小SiNx叠层的背离衬底的一侧的表面缺陷，从而避免由于SiNx叠层的表面缺陷引起的后续形成在SiNx叠层之上的其他膜层的不良，提高产品良率。
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公开(公告)号：CN118899319A
公开(公告)日：2024-11-05
申请号：CN202410915784.4
申请日：2024-07-09
申请人： 北京京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： H01L27/12
摘要： 本申请提供了一种显示基板及其制备方法、显示面板、显示装置，涉及显示技术领域。该制备方法包括：在衬底上依次形成栅极层、有源层和源漏导电层；形成第一掩膜层，第一掩膜层位于源漏导电层的远离衬底的一侧，第一掩膜层具有多个开口；经第一掩膜层的多个开口，刻蚀源漏导电层和有源层；去除第一掩膜层；依次形成钝化层和平坦化层，钝化层和平坦化层位于源漏导电层的远离衬底的一侧，平坦化层具有多个第一过孔；经平坦化层的多个第一过孔，刻蚀钝化层，该制备方法的工艺简单、成本较低。上述显示基板可应用于显示面板中，以实现画面显示。
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公开(公告)号：CN118448423A
公开(公告)日：2024-08-06
申请号：CN202410530440.1
申请日：2024-04-29
申请人： 北京京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
摘要： 本发明提供了一种显示基板及其制作方法、显示装置，属于显示技术领域。显示基板包括：衬底基板；位于衬底基板上的栅金属层；位于栅金属层远离衬底基板一侧的栅绝缘层；位于栅绝缘层远离衬底基板一侧的有源层；位于有源层远离衬底基板一侧的源漏金属层；位于源漏金属层远离衬底基板一侧的钝化层；位于钝化层远离衬底基板一侧的像素电极，像素电极包括层叠设置的遮光金属图形和透明导电图形，透明导电图形位于遮光金属图形远离衬底基板的一侧，遮光金属图形在衬底基板上的正投影位于透明导电图形在衬底基板上的正投影内，有源层在衬底基板上的正投影位于像素电极在衬底基板上的正投影内。本发明能够简化显示基板的制程，降低显示基板的制作成本。
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公开(公告)号：CN118695751A
公开(公告)日：2024-09-24
申请号：CN202410764465.8
申请日：2024-06-13
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明提供一种显示面板及其制备方法、显示装置，显示面板包括：基板，基板包括显示区和包围显示区的边缘区；像素限定层，位于基板的显示区的一侧；第一阻挡坝，位于基板的边缘区的一侧；第二阻挡坝，位于像素限定层和第一阻挡坝之间的基板的一侧，第二阻挡坝的材料和像素限定层的材料不同；以及封装层，封装层包括：有机封装层，位于像素限定层背离基板的一侧且延伸至覆盖第二阻挡坝；其中，第一阻挡坝包围有机封装层。降低封装失效的概率。
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公开(公告)号：CN118678766A
公开(公告)日：2024-09-20
申请号：CN202410705654.8
申请日：2024-05-31
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
IPC分类号： H10K59/12 , H10K59/131 , H10K59/124 , H10K59/80 , H01L27/12 , H10K50/81
摘要： 本申请提供一种显示面板及显示装置，涉及显示技术领域，显示面板包括：衬底基板，位于衬底基板上的驱动电路层，以及位于驱动电路层上远离衬底基板一侧的多个发光元件；驱动电路层至少包括第一导电层和第二导电层；第一导电层和第二导电层之间设置有第一绝缘层；第一绝缘层包括第一过孔；驱动电路层和第一发光元件的第一阳极之间设置有第二绝缘层；第一绝缘层和/或第二绝缘层设置有第一凹陷区；第一阳极在衬底基板上的第一正投影，与第一过孔在衬底基板上的第二正投影存在第一交叠区域；第一正投影与第一凹陷区在衬底基板上的第三正投影存在第二交叠区域；第二正投影与第三正投影无交叠区域。可以提高阳极平坦性，减少显示面板的色偏差异。
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公开(公告)号：CN118317641A
公开(公告)日：2024-07-09
申请号：CN202410430879.7
申请日：2024-04-10
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
IPC分类号： H10K59/131 , H10K59/35 , G09F9/33
摘要： 本申请提供一种显示面板和显示装置，能够改善所述显示面板的色偏。所述显示面板包括：基板；多个金属层，设置于所述基板的一侧，所述多个金属层朝向远离所述基板的方向依次包括第一金属层、第二金属层和第三金属层，所述第一金属层、所述第二金属层和所述第三金属层上分别形成有第一信号走线、第二信号走线和第三信号走线；以及像素单元阵列，设置于所述多个金属层的远离所述基板的一侧，所述像素单元阵列包括沿竖直方向和水平方向排列设置的多个像素单元，所述第二金属层在所述基板上的投影区域与所述像素单元在所述基板上的投影区域之间交叠，且在所述像素单元对应的投影区域内，所述第二金属层对应的投影区域在所述竖直方向上对称。
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公开(公告)号：CN118251052A
公开(公告)日：2024-06-25
申请号：CN202410338873.7
申请日：2024-03-22
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
IPC分类号： H10K59/12 , H10K59/121 , H10K59/131 , H10K59/122 , H10K59/35
摘要： 本申请实施例提供了一种显示面板和显示装置。显示面板包括基板、驱动层、发光结构层以及像素定义层，驱动层设置有遮挡垫块和补偿垫块，像素定义层设置有多个像素开口，多个像素开口包括第一像素开口和第二像素开口，第一像素开口在基板的正投影与遮挡垫块在基板的正投影至少部分交叠；第二像素开口在基板的正投影与信号走线以及补偿垫块在基板的正投影至少部分交叠，并且补偿垫块在第一方向上位于第二像素开口的几何中心的一侧。通过设置补偿垫块可以平衡第二像素开口所对应子像素在第一方向上的其中一侧亮度衰减较快的情况，使在同一视角下，各子像素的亮度衰减趋势趋于一致，进而可以改善显示面板的色偏不对称情况，提高显示质量。
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公开(公告)号：CN104103673B
公开(公告)日：2017-06-20
申请号：CN201410325827.X
申请日：2014-07-09
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
发明人： 张鹏
CPC分类号： H01L27/3258 , H01L27/3248 , H01L27/3262 , H01L51/0017 , H01L51/0021 , H01L51/5203 , H01L51/5209 , H01L51/5225 , H01L51/5271 , H01L51/56
摘要： 本发明提供了一种OLED显示器及其制备方法，涉及显示技术领域，可提高OLED显示器的视角；该OLED显示器包括多个子像素单元，每个所述子像素单元均包括依次设置在衬底基板上的第一电极、有机材料功能层、第二电极；进一步所述子像素单元还包括：设置在所述衬底基板和所述第一电极之间的第一缓冲层；其中，所述第一缓冲层与所述第一电极对应部分且远离所述衬底基板一侧的表面具有凹陷的弧形形状；所述第一电极为透明电极，所述第二电极为不透明金属电极。用于底发射OLED显示器的设计及制造，该OLED显示器可增大视角。
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公开(公告)号：CN103966546B
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：CN201410178390.1
申请日：2014-04-29
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
发明人： 张鹏
CPC分类号： C23C14/04 , C23C14/042 , C23C14/24 , H01L51/0011 , H01L51/56
摘要： 本发明公开了一种金属掩膜板，以解决真空蒸镀法中衬底基板与金属掩膜板对位困难、对位误差较大的问题。所述金属掩膜板用于真空蒸镀法中作为衬底基板的掩膜板，所述金属掩膜板包括掩膜图形及若干对位孔，所述对位孔在所述金属掩膜板中的延伸方向与所述金属掩膜板所在平面的垂直方向不重合，且所述对位孔不穿透所述金属掩膜板。本发明实施例中，光线在对位孔内多次反射且一部分光线被吸收，CCD系统根据金属掩膜板的对位孔和衬底基板的对位标记生成的图像具有较大的颜色对比，因此容易区分，从而降低对位难度，减小对位误差。
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