Invention Publication
CN118621269A 真空蒸镀方法
审中-公开
- Patent Title: 真空蒸镀方法
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Application No.: CN202410240938.4Application Date: 2024-03-04
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Publication No.: CN118621269APublication Date: 2024-09-10
- Inventor: 木本孝仁 , 安田仁 , 仓内利春 , 佐佐木俊介 , 氏原祐辅
- Applicant: 株式会社爱发科
- Applicant Address: 日本神奈川县茅崎市荻园2500
- Assignee: 株式会社爱发科
- Current Assignee: 株式会社爱发科
- Current Assignee Address: 日本神奈川县茅崎市荻园2500
- Agency: 北京英特普罗知识产权代理有限公司
- Agent 齐永红; 秦岩
- Priority: 2023-196486 20231120 JP 2023-196486 20231120 JP
- Main IPC: C23C14/24
- IPC: C23C14/24 ; C23C14/50 ; C23C14/56

Abstract:
本发明提供一种真空蒸镀方法,能够尽量抑制蒸镀舟皿上产生的局部变形的进行,延长蒸镀舟皿的使用寿命。包含蒸发工序,其使用蒸镀舟皿(3),以与限定收纳部的舟皿主体的底板抵接的方式从其上方供给线状的蒸镀材料,通过在两电极安装板部间通电而加热舟皿主体,使收纳部内的蒸镀材料蒸发,其中,所述蒸镀舟皿具有:具有蒸镀材料(Em)的收纳部(31a)的作为蒸镀源(BS)的舟皿主体(31);以及分别从舟皿主体的两端伸出的电极安装板部(33)。还包括移位工序,其在供给线状的蒸镀材料期间,通过与舟皿主体的底板抵接的线状的蒸镀材料的前端部(Em1)相对于舟皿主体的相对移动而使前端部连续或间歇地移位。
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