发明公开
CN118880422A 一种改善电镀取片的方法
审中-公开
- 专利标题: 一种改善电镀取片的方法
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申请号: CN202411346204.0申请日: 2024-09-26
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公开(公告)号: CN118880422A公开(公告)日: 2024-11-01
- 发明人: 赖礼钢 , 邱启新 , 黄毓
- 申请人: 渠梁电子有限公司
- 申请人地址: 福建省泉州市晋江市集成电路科学园建兴路368号
- 专利权人: 渠梁电子有限公司
- 当前专利权人: 渠梁电子有限公司
- 当前专利权人地址: 福建省泉州市晋江市集成电路科学园建兴路368号
- 代理机构: 苏州隆恒知识产权代理事务所
- 代理商 王芹
- 主分类号: C25D21/00
- IPC分类号: C25D21/00 ; C25D7/12
摘要:
本申请提供了一种改善电镀取片的方法,包括:提供完成电镀的晶圆,晶圆通过密封件进行定位与固定;对完成电镀的晶圆进行甩干,用以吹干水膜;设置密封件连接处的压力为2.4PSI,以降低密封件连接处的真空度;通过机器手对晶圆进行取片;其中,在密封件的外壁上开设细槽,以增加密封件连接处的粗糙度;细槽朝向所述密封件的边缘处进行延伸,且细槽的两端与晶圆的边缘处保持分离,本发明通过在密封件的外壁上设置细槽,可以有效地提高密封件连接处的粗糙度,进而可以进一步地降低密封件连接处的真空度,从而可以有效地避免机械手在取片的过程中发生取片失败的情况。