发明公开
- 专利标题: 一种提升单晶金刚石光学均匀性的方法
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申请号: CN202411368096.7申请日: 2024-09-29
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公开(公告)号: CN118880473A公开(公告)日: 2024-11-01
- 发明人: 叶爽 , 叶中豪 , 张书隆 , 叶满 , 严商奇 , 陈逸豪
- 申请人: 浙江无限钻科技发展有限公司
- 申请人地址: 浙江省杭州市钱塘区白杨街道21号大街600号4幢308室
- 专利权人: 浙江无限钻科技发展有限公司
- 当前专利权人: 浙江无限钻科技发展有限公司
- 当前专利权人地址: 浙江省杭州市钱塘区白杨街道21号大街600号4幢308室
- 代理机构: 杭州研基专利代理事务所
- 代理商 赵丙卯
- 主分类号: C30B33/02
- IPC分类号: C30B33/02 ; C30B29/04
摘要:
本发明属于金刚石光学晶体材料领域,具体涉及一种提升单晶金刚石光学均匀性的方法。该方法具体包含以下步骤:1.通过激光平整化、抛光以及清洗获得表面平整、无多晶点的单晶金刚石;2.将所述晶体置于六面顶压机中,并设置具体工艺参数进行退火;3.退火结束后,采用分段式降温工艺将晶体缓慢降至常温常压;4.降温结束后对晶体进行表面处理。本方法能够有效提升金刚石的质量,降低金刚石的位错密度和应力双折射,并能显著提升金刚石的光学均匀性和光学透过率。使用本方法获得的单晶金刚石,可以满足拉曼激光增益介质的需求。
IPC分类: