Invention Publication

用于半导体检验的气流配置
Abstract:
本发明提供用于检验样品的方法及系统。一种系统包含检验子系统,其经配置用于将光引导到所述样品上的区域且用于响应于来自所述样品上的所述区域的光而产生输出。所述系统还包含第一气流子系统,其经配置用于用与围绕所述样品上的所述区域的第一局部体积中的气体相比散射较少的所述光的第一介质替换所述气体。另外,所述系统包含第二气流子系统,其经配置用于用不同于所述第一介质的第二介质替换接近所述第一局部体积的第二局部体积中的所述气体。所述系统进一步包含计算机子系统,其经配置用于基于所述输出检测所述样品上的异常。
Patent Agency Ranking
0/0