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公开(公告)号：CN116783469B
公开(公告)日：2024-09-17
申请号：CN202280008417.5
申请日：2022-02-17
申请人： 科磊股份有限公司
摘要： 一种检验系统可包含：照明源，其用于产生照明光束；照明光学器件，其用于沿着照明方向以偏轴角将所述照明光束引导到样本；及集光光学器件，其用于在暗场模式中收集来自所述样本的散射光，其中来自所述样本的所述散射光包含与从所述样本的表面散射的光相关联的表面雾光，且其中所述表面雾光的至少一部分具有椭圆偏振。所述系统可进一步包含用于将跨光瞳的所述表面雾光的所述偏振转换为平行于选定雾光定向方向对准的线性偏振的光瞳平面光学器件。所述系统可包含用于拒绝平行于此雾光定向方向对准的所述表面雾光的线性偏振器及用于基于由所述线性偏振器传递的光产生所述样本的暗场图像的检测器。
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公开(公告)号：CN116868069B
公开(公告)日：2024-09-06
申请号：CN202180094001.5
申请日：2021-10-01
申请人： 科磊股份有限公司
IPC分类号： G01R31/28
摘要： 本发明涉及一种用于在半导体装置晶片(SDW)的制造期间产生其质量参数值的系统及方法，所述方法包含：指定所述SDW上的多个测量位点集(MSS)，所述MSS中的每一者包含第一测量定向位点(FMS)及第二测量定向位点(SMS)，所述FMS及所述SMS为所述SDW上的不同测量位点；通过在第一测量定向上测量形成于所述MSS中的至少一者的每一所述FMS内的特征来产生第一测量定向质量参数数据集(FMQPD)；通过在第二测量定向上测量形成于所述MSS中的所述至少一者的每一所述SMS内的特征来产生第二测量定向质量参数数据集(SMQPD)；及至少部分基于所述FMQPD及所述SMQPD来产生至少一个工具诱发偏移(TIS)改进的质量参数值(TAQPV)。
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公开(公告)号：CN113557466B
公开(公告)日：2024-08-30
申请号：CN202080020182.2
申请日：2020-03-20
申请人： 科磊股份有限公司
摘要： 本发明公开一种使用于计量学中的光栅，其包含周期性结构，所述周期性结构包含具有间距P的多个单元，所述多个单元中的至少一个单元包含：至少第一周期性子结构，其具有小于所述间距P的第一子间距P1；及至少第二周期性子结构，其与所述至少一个单元内的所述第一周期性子结构并排且分开布置且具有小于所述间距P且与所述第一子间距P1不同的第二子间距P2，P1及P2经选择以产生至少一个叠纹间距Pm＝P1·P2/(P2–P1)，所述间距P为所述第一子间距P1及所述第二子间距P2的整数倍数。
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公开(公告)号：CN116940830B
公开(公告)日：2024-08-09
申请号：CN202280018259.1
申请日：2022-02-18
申请人： 科磊股份有限公司
摘要： 一种计量工具可包含照明子系统以用两个或更多个照明光束照射两个或更多个获取场内的样本，其中所述两个或更多个获取场以非重叠配置沿扫描方向分布，且其中平移台沿所述扫描方向平移所述样本上的计量目标循序通过所述两个或更多个获取场。所述计量工具可进一步包含成像子系统以在沿所述扫描方向扫描所述样本时使所述两个或更多个获取场成像。所述成像子系统可包含场重定位光学中继器以将所述两个或更多个获取场的图像中继到扫描检测器，所述扫描检测器包含沿列方向分布的一或多个像素列，其中所述场重定位光学中继器沿所述列方向将所述两个或更多个获取场的所述图像定位于所述扫描检测器上。
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公开(公告)号：CN118435024A
公开(公告)日：2024-08-02
申请号：CN202380015205.4
申请日：2023-03-28
申请人： 科磊股份有限公司
IPC分类号： G01B11/27 , G01N21/88 , G01N21/956 , H01L21/66
摘要： 一种计量系统包含成像系统。所述成像系统可包含物镜。所述计量系统可包含一或多个检测器。所述计量系统可包含结构上耦合到所述物镜且经配置以经由沿所述计量系统的光轴移动来调整所述一或多个检测器中的至少一者的焦平面的物镜定位载台。所述计量系统可包含经配置以当所述物镜定位载台沿所述光轴移动时测量载台元件的侧向位置的一或多个接近传感器。所述计量系统可经配置以当实施计量配方时使用所述载台元件的图像及侧向位置来确定与样本上的目标相关联的计量测量。
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公开(公告)号：CN112703392B
公开(公告)日：2024-08-02
申请号：CN201980059355.9
申请日：2019-09-10
申请人： 科磊股份有限公司
发明人： 郑雨
摘要： 本发明涉及一种光衰减装置，其包含：外壳；第一滤波器；第一电动机，其经配置以移动所述第一滤波器；及气动致动器，其经配置以移动所述第一滤波器以与所述外壳接触或不与所述外壳接触。所述滤波器包含在宽度上变化的多个狭缝开口，使得通过所述多个狭缝开口的光量随着所述第一滤波器移动而变化。所述光衰减装置还可包含第二滤波器及经配置以移动所述第二滤波器的第二电动机。还揭示一种光衰减方法，其包含：调整滤波器的位置，使得由辐射光束照射所述滤波器的一部分；及在维持所述滤波器的所述部分的所述照射时，移动所述滤波器以与导热对象接触。
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公开(公告)号：CN109804462B
公开(公告)日：2024-07-05
申请号：CN201780028194.8
申请日：2017-05-16
申请人： 科磊股份有限公司
IPC分类号： H01L21/66 , H01L21/027 , H01L21/768
摘要： 本发明涉及用于大量图案搜索的检验及设计之间的漂移的自动校正的系统及方法。在晶片的扫描中识别缺陷。所述缺陷与工具坐标相关联。SEM复检工具捕获所述缺陷的经居中图像。使用经导入设计文件中的设计多边形来将所述SEM复检工具与所述晶片对准。设计坐标经导出且用于界定受关注图案且识别所述受关注图案的位置。
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公开(公告)号：CN118263073A
公开(公告)日：2024-06-28
申请号：CN202311361910.8
申请日：2019-09-17
申请人： 科磊股份有限公司
IPC分类号： H01J37/073 , H01J37/28
摘要： 本申请实施例涉及一种金属囊封光电阴极电子发射器。本发明揭示一种光电阴极结构，其可包含Cs2Te、CsKTe、CsI、CsBr、GaAs、GaN、InSb、CsKSb或金属中的一或多者，所述光电阴极结构在外表面上具有保护膜。所述保护膜包含钌、镍、铂、铬、铜、金、银、铝中的一或多者或其合金。所述保护膜可具有从1nm到10nm的厚度。所述光电阴极结构可用于如扫描电子显微镜的电子束工具中。
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公开(公告)号：CN118225804A
公开(公告)日：2024-06-21
申请号：CN202410326042.8
申请日：2021-09-21
申请人： 科磊股份有限公司
IPC分类号： G01N21/956 , G03F7/20 , G01N21/88 , G06T7/00 , G06V10/764 , G06V10/40 , G06N20/00 , G06N3/0464
摘要： 本公开涉及用于在基于图像的叠加计量中确定目标特征焦点的系统及方法。一种计量系统包含通信地耦合到控制器的一或多个离焦成像计量子系统，所述控制器具有经配置以接收在一或多个焦点位置处捕获的多个训练图像的一或多个处理器。所述一或多个处理器可基于所述多个训练图像产生机器学习分类器。所述一或多个处理器可接收针对一或多个目标叠加测量的对应于一或多个目标特征的一或多个目标特征选择。所述一或多个处理器可使用所述机器学习分类器来基于所述一或多个目标特征选择确定一或多个目标焦点位置。
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公开(公告)号：CN115380357B
公开(公告)日：2024-06-04
申请号：CN202180028220.3
申请日：2021-04-13
申请人： 科磊股份有限公司
发明人： W·G·舒尔茨
IPC分类号： H01J37/244 , H01J37/305
摘要： 本发明提供一种电子束系统及方法。所述系统包含具有经配置以检测被反射离开样本的背散射电子的检测器面的检测器。所述系统进一步包含安置于所述检测器面上的环形盖及安置于所述环形盖上以覆盖所述检测器面的保护膜。所述保护膜对于背散射电子透明且对于指向所述检测器面的粒子提供物理势垒。
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