用于深紫外线的光刻胶组合物及其方法

发明授权

CN1230715C 用于深紫外线的光刻胶组合物及其方法失效 - 权利终止转让

摘要：

本发明涉及一种化学放大体系，它对300nm和100nm之间的波长敏感，并包含a)一种不溶于碱性水溶液且包含至少一个酸不稳定基团的聚合物，b)一种能够在辐射时生产酸的化合物。本发明包含一种由脂环族烃烯烃，具有侧环状部分的丙烯酸酯，和环状酸酐制成的聚合物。本发明还涉及一种用于成像这种光刻胶的方法。

公开/授权文献

信息查询

中国专利公布公告 Espacenet

IPC分类:

G	物理
G03	摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F	图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G）
G03F7/00	图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L21/00，H05K）
G03F7/004	.感光材料（G03F7/12，G03F7/14优先）
G03F7/039	..可光降解的高分子化合物，例如，正电子抗蚀剂（G03F7/075优先；高分子苯醌重氮化合物入G03F7/023）