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1.

发明授权
用于深紫外线的光刻胶组合物及其方法失效转让

公开(公告)号：CN1230715C

公开(公告)日：2005-12-07

申请号：CN01812974.9

申请日：2001-07-11

申请人： AZ电子材料日本株式会社

发明人： M·D·拉曼 , M·帕德马纳本 , R·R·戴米尔

IPC分类号： G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0045 , G03F7/0395 , Y10S430/115

摘要： 本发明涉及一种化学放大体系，它对300nm和100nm之间的波长敏感，并包含a)一种不溶于碱性水溶液且包含至少一个酸不稳定基团的聚合物，b)一种能够在辐射时生产酸的化合物。本发明包含一种由脂环族烃烯烃，具有侧环状部分的丙烯酸酯，和环状酸酐制成的聚合物。本发明还涉及一种用于成像这种光刻胶的方法。