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    用于光刻胶的抗反射涂料
    1.
    发明授权
    用于光刻胶的抗反射涂料 失效

    公开(公告)号：CN1215382C

    公开(公告)日：2005-08-17

    申请号：CN00811514.1

    申请日：2000-08-04

    申请人： AZ电子材料日本株式会社

    发明人： S·S·迪克斯特 ,  M·D·拉曼 ,  D·N·坎纳 ,  J·E·奥博兰德 ,  D·L·杜哈姆

    IPC分类号： G03F7/09 ,  C09D179/02

    CPC分类号： G03F7/091

    摘要： 本发明涉及一种抗反射涂料组合物，包括以下物质的混合物：a)由以下结构(I)定义的聚合物，其中R1和R2独立地为氢、或C1-C6烷基，R3是甲基、乙基、丙基或丁基，R4-R7独立地为氢、或C1-C5烷基，n＝10-5000；(b)含氟、微水溶性(在水中，0.1-10%重量)有机C3-C13脂族羧酸；(c)非金属氢氧化物；和(d)溶剂。本发明还涉及一种生产该抗反射涂料组合物的方法和一种与光刻胶组合物结合使用该抗反射涂料组合物来生产微电子设备的方法。

    生产光致抗蚀剂组合物用成膜树脂的方法
    2.
    发明授权
    生产光致抗蚀剂组合物用成膜树脂的方法 失效 转让

    公开(公告)号：CN1321737C

    公开(公告)日：2007-06-20

    申请号：CN02808085.8

    申请日：2002-03-19

    申请人： AZ电子材料日本株式会社

    发明人： M·D·拉曼 ,  D·麦肯齐 ,  T·工藤 ,  M·帕德马纳本

    IPC分类号： B01J20/28 ,  B01J47/00 ,  B01J47/12 ,  G03F7/039

    CPC分类号： B01J20/28033 ,  B01J20/28004 ,  B01J20/28028 ,  B01J20/2803 ,  B01J20/28085 ,  B01J47/018 ,  B01J47/133 ,  C08F6/02 ,  C08F6/16 ,  G03F7/0395

    摘要： 本发明提供了生产适合用于光致抗蚀剂组合物的成膜树脂的方法，包括下列步骤：(a)提供成膜树脂在溶剂中的溶液，所述成膜树脂通过将含有环烯烃或酸不稳定丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯单体的至少一种单体聚合来制备；(b)提供以下两种滤片的至少一种：(i)包括其中固定有颗粒助滤剂(优选用酸洗涤过)和颗粒离子交换树脂的自承纤维基质的滤片，所述离子交换树脂具有大约2到大约10微米的平均粒度，其中所述颗粒助滤剂和离子交换树脂颗粒基本上均匀分布在所述基质的整个截面部分；和/或(ii)包括其中固定有颗粒助滤剂和粘结剂树脂的自承纤维(优选纤维素)基质的滤片，该滤片优选不含有任何离子交换树脂，和具有0.05到0.5μm的平均孔径；(c)用步骤a)的溶剂冲洗步骤b)的滤片；和(d)让该成膜树脂的溶液通过步骤(c)的冲洗过的滤片。本发明还提供了生产光致抗蚀剂组合物的方法，包括提供：1)用上述方法制备的成膜树脂；2)其量足以使光致抗蚀剂组合物光敏化的光敏组分；和任选3)其它适合的光致抗蚀剂溶剂的混合物。本发明还提供了通过在基材上形成影像来生产微电子器件的方法，所述方法包括以下步骤：a)提供通过前述方法制备的光致抗蚀剂组合物；b)此后，用步骤a)的光致抗蚀剂组合物涂布适合的基材；c)此后，热处理涂布的基材，直到基本上全部的光致抗蚀剂溶剂被去除为止；和d)将该光致抗蚀剂组合物成像曝光和用适合的显影剂除去光致抗蚀剂组合物的成像曝光区域。