发明授权
CN1290165C 半导体器件制造方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 半导体器件制造方法
- 专利标题(英): Method for manufacturing semiconductor device
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申请号: CN02143808.0申请日: 1995-02-10
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公开(公告)号: CN1290165C公开(公告)日: 2006-12-13
- 发明人: 角田重晴 , 佐伯准一 , 吉田勇 , 大路一也 , 本田美智晴 , 北野诚 , 米田奈柄 , 江口州志 , 西邦彦 , 安生一郎 , 大宪一
- 申请人: 株式会社日立制作所
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 株式会社日立制作所
- 当前专利权人: 株式会社日立制作所
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 陈霁
- 优先权: 16105/94 1994.02.10 JP
- 分案原申请号: 951029304
- 主分类号: H01L21/60
- IPC分类号: H01L21/60 ; H01L21/58 ; H01L21/56
摘要:
一种半导体塑封,特别涉及对BGA封装的封装结构和方法。一种树脂密封的BGA封装,其中支撑架牢固地支撑半导体部件,例如,IC芯片,电路板或电路膜,用树脂密封,用由上半模和下半模构成的模具,其下半模中有多个凸柱,每个凸柱的位置与每个外引出端对应。模具有分割结构,在其各分割的零件之间有出气孔。
公开/授权文献
- CN1489192A 半导体器件制造方法 公开/授权日:2004-04-14
IPC分类: