发明公开
CN1449234A 膜基板处理装置、膜基板处理方法和膜基板搬出方法
失效 - 权利终止
- 专利标题： 膜基板处理装置、膜基板处理方法和膜基板搬出方法
- 专利标题（英）： Device and method for film base plate processing and method for film base plate moving out
-
申请号： CN03107731.5申请日： 2003-03-31
-
公开(公告)号： CN1449234A公开(公告)日： 2003-10-15
- 发明人: 笹冈达雄 , 铃木直树 , 米泽隆弘 , 堀江聪
- 申请人： 松下电器产业株式会社
- 申请人地址： 日本国大阪府门真市
- 专利权人： 松下电器产业株式会社
- 当前专利权人： 松下电器产业株式会社
- 当前专利权人地址： 日本国大阪府门真市
- 代理机构： 上海专利商标事务所
- 代理商 陈剑华
- 优先权： 2002－099637 2002.04.02 JP
- 主分类号： H05K3/26
- IPC分类号： H05K3/26
摘要：
提供一种将膜基板稳妥地放置到静电吸附式操作台上的膜基板处理装置。在该膜基板处理装置中，其将膜基板放置到静电吸附式操作台上的第1吸附部上设有吸附垫和将膜基板的端部区域朝操作台挤压的挤压部件。由此，可稳稳地将膜基板吸附于操作台上，在减压气氛下稳妥地对膜基板进行处理。
公开/授权文献
- CN100450329C 膜基板处理装置和膜基板处理方法 公开/授权日：2009-01-07
