- 专利标题: MOS晶体管以及具备该晶体管的半导体集成电路装置
- 专利标题(英): Mos transistor and a semiconductor integrated circuit apparatus having the same
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申请号: CN200510067769.6申请日: 2005-04-26
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公开(公告)号: CN1694264A公开(公告)日: 2005-11-09
- 发明人: 樱木正广 , 园田雅彦
- 申请人: 罗姆股份有限公司
- 申请人地址: 日本京都府
- 专利权人: 罗姆股份有限公司
- 当前专利权人: 罗姆股份有限公司
- 当前专利权人地址: 日本京都府
- 代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 刘建
- 优先权: 2004-136572 2004.04.30 JP
- 主分类号: H01L29/78
- IPC分类号: H01L29/78 ; H01L21/8224
摘要:
MOS晶体管具备:第1导电型区域;第2导电型漏极区域,其被形成在所述第1导电型区域的表层部上;第2导电型源极区域,其在所述第1导电型区域的表层部上,在与所述第2导电型漏极区域之间上间隔沟道区域而被形成;栅极电极,其被形成在所述沟道区域上;第2导电型基极区域,其俯视来看被形成在所述第2导电型漏极区域的内侧上;多个第1导电型发射极区域,其在该第2导电型基极区域内的表层部上,在规定方向互上互相空以间隔而被形成;漏极接点,其跨接在互相邻接的第1导电型发射极区域和该第1导电型发射极区域间的所述第2导电型漏极区域。
公开/授权文献
- CN100487914C MOS晶体管以及具备该晶体管的半导体集成电路装置 公开/授权日:2009-05-13
IPC分类: