发明公开
CN1721999A 辐射产生器件、光刻装置、器件制造方法及由此制造的器件
失效 - 权利终止
- 专利标题： 辐射产生器件、光刻装置、器件制造方法及由此制造的器件
- 专利标题（英）： Radiation generating device, lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby
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申请号： CN200510084819.1申请日： 2005-07-14
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公开(公告)号： CN1721999A公开(公告)日： 2006-01-18
- 发明人: K·N·科舍勒夫 , V·V·伊瓦诺夫 , E·D·科罗布 , G·G·祖卡维斯维里 , R·R·加亚佐夫 , V·M·克里特森
- 申请人： ASML荷兰有限公司
- 申请人地址： 荷兰维尔德霍芬
- 专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人地址： 荷兰维尔德霍芬
- 代理机构： 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 肖春京
- 优先权： 10/890381 2004.07.14 US
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20
摘要：
一种用于基于放电产生辐射源的装置，包括阴极和阳极。该阴极和阳极材料以流态提供。当装置在使用中时，材料形成等离子体箍缩。任选的是，可以使用喷嘴来提供该材料。阴极和/或阳极可形成平坦表面。可以延长材料的轨道。可以使用激光更容易地引起放电。可将激光引导到阳极或阴极或位于阳极和阴极之间的单独材料上。
公开/授权文献
- CN1721999B 辐射产生器件、光刻装置、器件制造方法及由此制造的器件 公开/授权日：2011-01-12
IPC分类:
