- 专利标题： 用于补偿半导体晶圆制备系统中扫描仪系统计时变化的方法和系统
- 专利标题（英）： Method and system to compensate for scanner system timing variability in a semiconductor wafer fabrication system
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申请号： CN200480012991.X申请日： 2004-03-12
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公开(公告)号： CN1788332A公开(公告)日： 2006-06-14
- 发明人: 海勒里奥·L·奥
- 申请人： ASML控股股份有限公司
- 申请人地址： 荷兰霍兰维荷芬
- 专利权人： ASML控股股份有限公司
- 当前专利权人： ASML控股股份有限公司
- 当前专利权人地址： 荷兰霍兰维荷芬
- 代理机构： 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司
- 代理商 肖善强
- 优先权： 60/454,386 2003.03.12 US; 10/800,369 2004.03.11 US
- 国际申请： PCT/US2004/007732 2004.03.12
- 国际公布： WO2004/081995 EN 2004.09.23
- 进入国家日期： 2005-11-14
- 主分类号： H01L21/00
- IPC分类号： H01L21/00 ; G05B19/00
摘要：
本发明公开了一种至少包括流水线系统和扫描仪系统的半导体晶圆制备系统，该系统当检测到对扫描仪系统中额定周期的偏离时，通过动态地引入时间延迟来补偿所述偏离。优选地，现有的静态等待状态也引入到晶圆配方中，以降低资源冲突的概率。尽管存在这种偏离，仍保持晶圆流的同步，所以所得半导体晶圆制备系统可以增加晶圆生产量。
公开/授权文献
- CN100435270C 补偿扫描仪系统计时变化的半导体晶圆制备系统和方法 公开/授权日：2008-11-19