发明公开
CN1799004A 用于照相平版印刷的半导体纳米尺寸颗粒的应用
无效 - 撤回
- 专利标题： 用于照相平版印刷的半导体纳米尺寸颗粒的应用
- 专利标题（英）： Applications of semiconductor nano-sized particles for photolithography
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申请号： CN200480012054.4申请日： 2004-03-04
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公开(公告)号： CN1799004A公开(公告)日： 2006-07-05
- 发明人: 陈之昀 , E·F·弗利特 , G·库珀
- 申请人： 皮瑟莱根特科技有限责任公司
- 申请人地址： 美国弗吉尼亚州
- 专利权人： 皮瑟莱根特科技有限责任公司
- 当前专利权人： 皮瑟莱根特科技有限责任公司
- 当前专利权人地址： 美国弗吉尼亚州
- 代理机构： 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 韦欣华; 李连涛
- 优先权： 60/451,240 2003.03.04 US
- 国际申请： PCT/US2004/006443 2004.03.04
- 国际公布： WO2005/029180 EN 2005.03.31
- 进入国家日期： 2005-11-04
- 主分类号： G03F7/00
- IPC分类号： G03F7/00 ; G03F7/04 ; G03F7/26 ; G03F9/00
摘要：
半导体纳米尺寸颗粒具有独特的光学性质，使得它们成为UV照相平版印刷的多种应用的理想候选。在本专利中记载了几个这种应用，包括使用半导体纳米尺寸颗粒或包含半导体纳米尺寸颗粒的材料作为沉浸式平版印刷中高折射性介质，作为光学仪器中的抗反射性涂层，作为平版印刷中的胶片，和作为UV光致抗蚀剂的感光剂。
