发明公开
CN1799294A 填充微盲孔的方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 填充微盲孔的方法
- 专利标题(英): Process for filling micro-blind vias
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申请号: CN200480015436.2申请日: 2004-06-01
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公开(公告)号: CN1799294A公开(公告)日: 2006-07-05
- 发明人: A·厄兹柯克 , B·O·勒尔夫斯 , O·伊格尔 , H·根特 , K-J·马泰亚特
- 申请人: 阿托特希德国有限公司
- 申请人地址: 德国柏林
- 专利权人: 阿托特希德国有限公司
- 当前专利权人: 阿托特希德国有限公司
- 当前专利权人地址: 德国柏林
- 代理机构: 北京市中咨律师事务所
- 代理商 林柏楠; 隗永良
- 优先权: 10325101.4 2003.06.03 DE
- 国际申请: PCT/EP2004/005874 2004.06.01
- 国际公布: WO2004/107834 EN 2004.12.09
- 进入国家日期: 2005-12-02
- 主分类号: H05K3/42
- IPC分类号: H05K3/42 ; C25D21/18
摘要:
本发明提供了一种在生产印刷电路板的过程中填充μ-盲孔的方法,该方法包括以下步骤:(i)提供用金属涂层进行电镀所用的电解质镀液,所述镀液含有铜金属盐,并可含有或不含有机添加剂,(ii)用电流密度为0.5到10A/dm2的直流电或有效电流密度为0.5到10A/dm2的脉冲电流操作该镀液,(iii)从电镀液中取出部分电解质,(iv)在已取出的该部分电解质中加入氧化剂,(v)任选地用紫外光照射取出的电解质,并(vi)将取出的部分循环到电镀液中并更换通过氧化处理破坏的有机添加剂。
公开/授权文献
- CN1799294B 填充微盲孔的方法 公开/授权日:2012-02-08