发明授权
- 专利标题: 控制沉积系统的喷射器的方法
- 专利标题(英): Method of controlling effusion cell of deposition system
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申请号: CN200610000374.9申请日: 2006-01-06
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公开(公告)号: CN1800434B公开(公告)日: 2010-05-12
- 发明人: 黄珉婷 , 宋官燮 , 金度根 , 安宰弘 , 李星昊
- 申请人: 三星移动显示器株式会社
- 申请人地址: 韩国京畿道
- 专利权人: 三星移动显示器株式会社
- 当前专利权人: 三星显示有限公司
- 当前专利权人地址: 韩国京畿道
- 代理机构: 北京铭硕知识产权代理有限公司
- 代理商 郭鸿禧; 邱玲
- 优先权: 10-2005-0001084 2005.01.06 KR; 10-2005-0001085 2005.01.06 KR
- 主分类号: C23C14/24
- IPC分类号: C23C14/24 ; C23C14/54
摘要:
本发明提供了一种用于控制喷射器的方法。在控制沉积系统中的包括熔罐、引导通路和喷射喷嘴的喷射器的方法中,加热引导通路和喷射喷嘴。在加热引导通路和喷射喷嘴后加热熔罐。此外,在冷却包括熔罐、引导通路和喷射喷嘴的喷射器中,冷却熔罐。在冷却熔罐后,冷却引导通路和喷射喷嘴。这种方法的优点在于通过防止由熔罐中蒸发的沉积材料导致喷射喷嘴形成阻塞或喷溅来提高形成在基底上的有机层的均匀性。
公开/授权文献
- CN1800434A 控制沉积系统的喷射器的方法 公开/授权日:2006-07-12