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发明公开
CN1802750A 经改进的成像装置的遮光层 失效 - 权利终止

经改进的成像装置的遮光层
摘要：
一种经改进的成像装置像素的结构，在像素电路至少但在像素导电互连层之下设有遮光层。遮光层可为不透光(或几乎不透光)材料的薄膜，并有孔供接触体连接到下面的电路。遮光层中的开口露出像素的光电转换器的活性区。
摘要（英）：

An improved imager pixel arrangement having a light shield over the pixel circuitry, but below the conductive interconnect layers of the pixel. The light shield can be a thin film of opaque (or nearly-opaque) material with openings for contacts to the underlying circuitry. An aperture in the light shield exposes the active region of the pixel's photoconversion device.

公开/授权文献
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