发明公开
- 专利标题： 用于超光滑表面加工的电容耦合式射频常压等离子体炬
- 专利标题（英）： Capacitive coupling radio frequency normal pressure plasma torch for machining ultra-smooth surface
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申请号： CN200610010156.3申请日： 2006-06-14
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公开(公告)号： CN1864921A公开(公告)日： 2006-11-22
- 发明人: 王波 , 张巨帆 , 张龙江 , 王浪平 , 董申
- 申请人： 哈尔滨工业大学
- 申请人地址： 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号
- 专利权人： 哈尔滨工业大学
- 当前专利权人： 哈尔滨工业大学
- 当前专利权人地址： 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号
- 代理机构： 哈尔滨市松花江专利商标事务所
- 代理商 刘同恩
- 主分类号： B24B1/00
- IPC分类号： B24B1/00
摘要：
用于超光滑表面加工的电容耦合式射频常压等离子体炬，它涉及一种等离子体抛光设备。本发明的目的是为解决常规的机械式研抛方法在碳化硅等硬脆性难加工材料的超光滑表面加工中存在的效率低、容易产生表层及亚表层损伤和现有的平行板式等离子体抛光方法中存在的加工痕迹难以消除，以及感应耦合式等离子体炬存在的内炬管易腐蚀，成本高，系统的维护性不好等问题。本发明阴极(6)的外壁与外套(9)的内壁之间形成水冷环形空间(13)，阳极水冷导管(1)设置在阳极(5)的内腔(16)内。本发明不需要真空室，本发明加工效率约是传统抛光方法的10倍。不会像真空等离子体那样对超光滑表面造成表面损伤、亚表层损伤和表面污染，实现了光学零件的高效率高质量加工。