发明公开
CN1896876A 光刻装置中的偏振辐射及器件制造方法
失效 - 权利终止
- 专利标题： 光刻装置中的偏振辐射及器件制造方法
- 专利标题（英）： Polarized radiation in lithographic apparatus and device manufacturing method
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申请号： CN200610101495.2申请日： 2006-07-10
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公开(公告)号： CN1896876A公开(公告)日： 2007-01-17
- 发明人: W·P·德博伊杰 , C·瓦格纳
- 申请人： ASML荷兰有限公司
- 申请人地址： 荷兰费尔德霍芬
- 专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人地址： 荷兰费尔德霍芬
- 代理机构： 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 肖春京
- 优先权： 11/177482 2005.07.11 US
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20 ; H01L21/00
摘要：
一种光刻装置，其包括照明系统，该照明系统具有多个光学元件，其能够调节辐射光束从而在横截面中包括线偏振辐射的第一部分以及非偏振或圆偏振辐射的第二部分。该装置进一步包括构造为支承构图部件的支架，构图部件能够给照明辐射光束的横截面赋予图案以形成带图案的辐射光束。提供一基底台来保持基底，同时提供投影系统，并将其配置为将带图案的辐射光束投射到基底的目标部分上。
公开/授权文献
- CN1896876B 光刻装置中的偏振辐射及器件制造方法 公开/授权日：2010-12-29
IPC分类:
