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公开(公告)号:CN1896876B
公开(公告)日:2010-12-29
申请号:CN200610101495.2
申请日:2006-07-10
申请人: ASML荷兰有限公司
CPC分类号: G03F7/70125 , G03F7/70566
摘要: 一种光刻装置,其包括照明系统,该照明系统具有多个光学元件,其能够调节辐射光束从而在横截面中包括线偏振辐射的第一部分以及非偏振或圆偏振辐射的第二部分。该装置进一步包括构造为支承构图部件的支架,构图部件能够给照明辐射光束的横截面赋予图案以形成带图案的辐射光束。提供一基底台来保持基底,同时提供投影系统,并将其配置为将带图案的辐射光束投射到基底的目标部分上。
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公开(公告)号:CN113874788A
公开(公告)日:2021-12-31
申请号:CN202080038359.1
申请日:2020-05-12
申请人: ASML荷兰有限公司
发明人: 马库斯·艾德里纳斯·范德柯克霍夫 , M·格拉姆 , H·J·M·梅杰 , J·A·范德布鲁克 , C·瓦格纳
IPC分类号: G03F7/20
摘要: 描述了一种可操作以向衬底的多个目标区域提供名义剂量辐射的光刻设备和关联方法。名义剂量辐射经过多次曝光被提供给衬底的多个目标区域中的每个目标区域。将名义剂量辐射提供给每个目标区域涉及使目标区域的第一区域曝光于辐射,而目标区域的第二部分未被曝光于辐射(第一部分和第二部分的形状和配置取决于被成像的图案)。每个目标区域的曝光次数是根据描述衬底的该目标区域响应于接收到热负载的机械行为的数据来确定的。热负载对应于在目标区域的第一部分被提供名义剂量辐射时接收的热负载。
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公开(公告)号:CN101598904B
公开(公告)日:2012-05-30
申请号:CN200910151900.5
申请日:2005-12-26
申请人: ASML荷兰有限公司 , ASML控股有限公司
发明人: A·J·布里克 , J·J·M·巴塞曼斯 , M·M·T·M·迪伊里奇斯 , C·瓦格纳 , L·赖齐科夫 , S·Y·斯米诺夫 , K·Z·特鲁斯特
IPC分类号: G03F7/20
CPC分类号: G03F7/702 , G03F7/70291
摘要: 一种光刻设备,包括:照明系统,所述照明系统调整辐射束;构图阵列,所述构图阵列包括单独可控元件以构图;以及投影系统,所述投影系统将该构图的辐射束投射在衬底的目标部分上,其中布置该辐射束以便非垂直地照射该构图阵列,其中包括多个构图阵列和相应的多个耦合反射镜,布置每个耦合反射镜以将由相应的构图阵列之一选择性反射的辐射引导到该投影系统中,并且布置这些耦合反射镜以使从该投影系统看时,该构图阵列被布置在比该构图阵列的实际布置更密集的虚拟阵列中。本发明还提供一种器件制造方法。
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公开(公告)号:CN102341754A
公开(公告)日:2012-02-01
申请号:CN201080009961.9
申请日:2010-02-25
申请人: ASML荷兰有限公司
CPC分类号: G03F7/70825 , G03F7/70075 , G03F7/70116
摘要: 提供一种光刻设备的照射系统,所述照射系统具有多个反射元件,反射元件布置成接收来自辐射源的辐射,反射元件在不同取向之间是可移动的。在不同的取向中,反射元件引导辐射朝向照射系统的光瞳平面内的反射部件处的不同部位,由此形成不同的照射模式。每个反射元件在将辐射引导朝向光瞳平面处的第一部位的第一取向和将辐射引导朝向光瞳平面处的第二部位的第二取向之间是可移动的,反射元件的第一取向和第二取向由端部限位件限定。
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公开(公告)号:CN1797202B
公开(公告)日:2010-12-08
申请号:CN200510003503.5
申请日:2005-12-23
申请人: ASML荷兰有限公司 , 卡尔蔡司SMT股份公司
IPC分类号: G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号: G03F7/70566 , G03F7/70091 , G03F7/70191
摘要: 光刻设备使用偏振光改善成像特性,例如曝光宽容度,同时保持和延长光刻设备中照射系统的寿命。
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公开(公告)号:CN100504611C
公开(公告)日:2009-06-24
申请号:CN200510108404.3
申请日:2005-10-08
申请人: ASML荷兰有限公司
发明人: C·瓦格纳
CPC分类号: G03F7/70258 , G03F7/70341
摘要: 浸入光刻设备的投射系统的末级元件构制用于折射率高于末级元件的折射率的液体。在一个实施例中,末级元件包括弯月形凸透镜。此类末级元件使得能够增大光刻设备的有效数值孔径并且减小投射光束在其经过末级元件到达液体时的总体内部反射。
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公开(公告)号:CN1797202A
公开(公告)日:2006-07-05
申请号:CN200510003503.5
申请日:2005-12-23
申请人: ASML荷兰有限公司 , 卡尔蔡司SMT股份公司
IPC分类号: G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号: G03F7/70566 , G03F7/70091 , G03F7/70191
摘要: 光刻设备使用偏振光改善成像特性,例如曝光宽容度,同时保持和延长光刻设备中照射系统的寿命。
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公开(公告)号:CN1758143A
公开(公告)日:2006-04-12
申请号:CN200510108404.3
申请日:2005-10-08
申请人: ASML荷兰有限公司
发明人: C·瓦格纳
CPC分类号: G03F7/70258 , G03F7/70341
摘要: 浸入光刻设备的投射系统的末级元件构制用于折射率高于末级元件的折射率的液体。在一个实施例中,末级元件包括弯月形凸透镜。此类末级元件使得能够增大光刻设备的有效数值孔径并且减小投射光束在其经过末级元件到达液体时的总体内部反射。
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公开(公告)号:CN103733735B
公开(公告)日:2016-05-11
申请号:CN201180072807.0
申请日:2011-12-13
申请人: ASML荷兰有限公司
IPC分类号: H05G2/00
CPC分类号: H05G2/006 , G03F7/70033 , H05G2/003 , H05G2/008
摘要: 一种辐射源包括:喷嘴,配置成沿着轨迹朝向等离子体形成位置引导燃料液滴(30)的流;激光器,配置成输出激光辐射,所述激光辐射在等离子体形成位置处被引导到燃料液滴上以在使用中生成用于产生辐射的等离子体;和捕捉装置,配置成捕捉穿过等离子体形成位置的燃料液滴,所述捕捉装置包括:容器(40),被配置成容纳流体(42);驱动器(44),被配置成驱动所述流体以使得流体移动;所述捕捉装置被配置成使得燃料液滴入射到移动的流体上。
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公开(公告)号:CN102341754B
公开(公告)日:2014-10-01
申请号:CN201080009961.9
申请日:2010-02-25
申请人: ASML荷兰有限公司
CPC分类号: G03F7/70825 , G03F7/70075 , G03F7/70116
摘要: 提供一种光刻设备的照射系统,所述照射系统具有多个反射元件,反射元件布置成接收来自辐射源的辐射,反射元件在不同取向之间是可移动的。在不同的取向中,反射元件引导辐射朝向照射系统的光瞳平面内的反射部件处的不同部位,由此形成不同的照射模式。每个反射元件在将辐射引导朝向光瞳平面处的第一部位的第一取向和将辐射引导朝向光瞳平面处的第二部位的第二取向之间是可移动的,反射元件的第一取向和第二取向由端部限位件限定。
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