光刻装置中的偏振辐射及器件制造方法

    公开(公告)号:CN1896876B

    公开(公告)日:2010-12-29

    申请号:CN200610101495.2

    申请日:2006-07-10

    IPC分类号: G03F7/20 H01L21/00

    CPC分类号: G03F7/70125 G03F7/70566

    摘要: 一种光刻装置,其包括照明系统,该照明系统具有多个光学元件,其能够调节辐射光束从而在横截面中包括线偏振辐射的第一部分以及非偏振或圆偏振辐射的第二部分。该装置进一步包括构造为支承构图部件的支架,构图部件能够给照明辐射光束的横截面赋予图案以形成带图案的辐射光束。提供一基底台来保持基底,同时提供投影系统,并将其配置为将带图案的辐射光束投射到基底的目标部分上。

    用于向衬底提供辐射的设备和方法

    公开(公告)号:CN113874788A

    公开(公告)日:2021-12-31

    申请号:CN202080038359.1

    申请日:2020-05-12

    IPC分类号: G03F7/20

    摘要: 描述了一种可操作以向衬底的多个目标区域提供名义剂量辐射的光刻设备和关联方法。名义剂量辐射经过多次曝光被提供给衬底的多个目标区域中的每个目标区域。将名义剂量辐射提供给每个目标区域涉及使目标区域的第一区域曝光于辐射,而目标区域的第二部分未被曝光于辐射(第一部分和第二部分的形状和配置取决于被成像的图案)。每个目标区域的曝光次数是根据描述衬底的该目标区域响应于接收到热负载的机械行为的数据来确定的。热负载对应于在目标区域的第一部分被提供名义剂量辐射时接收的热负载。

    光刻设备与装置制造方法

    公开(公告)号:CN100504611C

    公开(公告)日:2009-06-24

    申请号:CN200510108404.3

    申请日:2005-10-08

    发明人: C·瓦格纳

    IPC分类号: G03F7/20 G03F7/207

    CPC分类号: G03F7/70258 G03F7/70341

    摘要: 浸入光刻设备的投射系统的末级元件构制用于折射率高于末级元件的折射率的液体。在一个实施例中,末级元件包括弯月形凸透镜。此类末级元件使得能够增大光刻设备的有效数值孔径并且减小投射光束在其经过末级元件到达液体时的总体内部反射。

    光刻设备与装置制造方法

    公开(公告)号:CN1758143A

    公开(公告)日:2006-04-12

    申请号:CN200510108404.3

    申请日:2005-10-08

    发明人: C·瓦格纳

    IPC分类号: G03F7/20 G03F7/207

    CPC分类号: G03F7/70258 G03F7/70341

    摘要: 浸入光刻设备的投射系统的末级元件构制用于折射率高于末级元件的折射率的液体。在一个实施例中,末级元件包括弯月形凸透镜。此类末级元件使得能够增大光刻设备的有效数值孔径并且减小投射光束在其经过末级元件到达液体时的总体内部反射。

    辐射源
    9.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103733735B

    公开(公告)日:2016-05-11

    申请号:CN201180072807.0

    申请日:2011-12-13

    IPC分类号: H05G2/00

    摘要: 一种辐射源包括:喷嘴,配置成沿着轨迹朝向等离子体形成位置引导燃料液滴(30)的流;激光器,配置成输出激光辐射,所述激光辐射在等离子体形成位置处被引导到燃料液滴上以在使用中生成用于产生辐射的等离子体;和捕捉装置,配置成捕捉穿过等离子体形成位置的燃料液滴,所述捕捉装置包括:容器(40),被配置成容纳流体(42);驱动器(44),被配置成驱动所述流体以使得流体移动;所述捕捉装置被配置成使得燃料液滴入射到移动的流体上。