Invention Publication
CN1917187A 制造半导体器件的方法
失效 - 权利终止
- Patent Title: 制造半导体器件的方法
- Patent Title (English): Method for making semiconductor device
-
Application No.: CN200610101661.9Application Date: 1995-04-22
-
Publication No.: CN1917187APublication Date: 2007-02-21
- Inventor: 小山润 , 河崎祐司
- Applicant: 株式会社半导体能源研究所
- Applicant Address: 日本神奈川县厚木市
- Assignee: 株式会社半导体能源研究所
- Current Assignee: 株式会社半导体能源研究所
- Current Assignee Address: 日本神奈川县厚木市
- Agency: 中国专利代理(香港)有限公司
- Agent 张志醒
- Priority: 107573/1994 1994.04.22 JP
- The original application number of the division: 2004100557929
- Main IPC: H01L21/84
- IPC: H01L21/84 ; G02F1/1362

Abstract:
每根数据线的数据保持控制信号提供给并联在一起的多个源极跟随器。并联的源极跟随器是至少一个只用激光照射一次的第一跟随器和至少一个照射两次的第二跟随器的组合。用于结晶的激光照射的宽度等于源极跟随器的间隔乘以一个不小于3的整数。
Public/Granted literature
- CN1917187B 制造半导体器件的方法 Public/Granted day:2010-11-17
Information query
IPC分类: