发明公开
CN1988753A 在大气压力下产生等离子体并供应所述等离子体的装置
失效 - 权利终止
- 专利标题： 在大气压力下产生等离子体并供应所述等离子体的装置
- 专利标题（英）： Apparatus for processing substrate with atmospheric pressure plasma
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申请号： CN200610170533.X申请日： 2006-12-21
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公开(公告)号： CN1988753A公开(公告)日： 2007-06-27
- 发明人: 李荣钟 , 崔浚泳 , 黄寅旭 , 金薰
- 申请人： 爱德牌工程有限公司
- 申请人地址： 韩国京畿道
- 专利权人： 爱德牌工程有限公司
- 当前专利权人： 爱德牌工程有限公司
- 当前专利权人地址： 韩国京畿道
- 代理机构： 北京集佳知识产权代理有限公司
- 代理商 王艳江; 段斌
- 优先权： 10－2005－0128550 2005.12.23 KR; 10－2005－0129559 2005.12.26 KR; 10－2006－0105438 2006.10.30 KR; 10－2006－0105439 2006.10.30 KR
- 主分类号： H05H1/48
- IPC分类号： H05H1/48 ; H05H1/34
摘要：
本发明提供一种用于在大气压力下产生等离子体并供应所述等离子体的装置，该装置包括：壳体，气体导入所述壳体内；以及等离子体发生单元，所述等离子体发生单元包括设置在所述壳体内的上电极、以及设置在所述上电极之下的网状的下电极。根据本发明的网状下电极较容易制造。所述网状下电极使得可以调节等离子体所经过的开口的尺寸，从而在基板上均匀地提供等离子体。另外，使得微粒和残余气体不能附到所述基板的表面或附到所述装置的内部。
公开/授权文献
- CN1988753B 在大气压力下产生等离子体并供应所述等离子体的装置 公开/授权日：2012-06-27
IPC分类:
