实用新型
CN203651096U 一种防止硅基探测器荧光材料受潮降解的阻隔膜
失效 - 权利终止
- 专利标题: 一种防止硅基探测器荧光材料受潮降解的阻隔膜
- 专利标题(英): Barrier film for preventing dampness degradation of silicon-based detector fluorescent material
-
申请号: CN201420000653.5申请日: 2014-01-02
-
公开(公告)号: CN203651096U公开(公告)日: 2014-06-18
- 发明人: 崔潇 , 陶春先 , 何梁 , 洪瑞金 , 张大伟
- 申请人: 上海理工大学
- 申请人地址: 上海市杨浦区军工路516号
- 专利权人: 上海理工大学
- 当前专利权人: 上海理工大学
- 当前专利权人地址: 上海市杨浦区军工路516号
- 代理机构: 上海申汇专利代理有限公司
- 代理商 吴宝根
- 主分类号: B32B9/04
- IPC分类号: B32B9/04 ; B32B33/00
摘要:
本实用新型涉及一种防止硅基探测器荧光材料受潮降解的阻隔膜,包括由下到上贴合的底部阻隔膜、内层阻隔膜、顶部阻隔膜三层隔膜,内层阻隔膜内包裹着荧光材料,底部阻隔膜和顶部阻隔膜均由高、低折射率介质膜交替组合而成,内层阻隔膜为高折射率介质膜。荧光层完全处在阻隔膜的保护之内,防潮并显著地提高了荧光材料的工作寿命。