公开(公告)号：CN103943646B

公开(公告)日：2017-01-18

申请号：CN201410165934.0

申请日：2014-04-23

申请人： 上海理工大学

发明人： 陶春先 ,  崔潇 ,  何梁 ,  洪瑞金 ,  张大伟

IPC分类号： H01L27/148 ,  H01L21/339

摘要： 本发明提供了一种能够增强电荷耦合元件紫外响应能力的光学薄膜，包括：镀在电荷耦合元件的紫外接收面上的底部反射镜、镀在底部反射镜表面的荧光材料层、以及镀在荧光材料层表面的顶部反射镜，其中，顶部反射镜从荧光材料层向外依次由九层高折射率材料层和八层低折射率材料层交替重叠构成，底部反射镜依次由六层高折射率材料层和五层低折射率材料层交替重叠组成。本发明还提供了该光学薄膜的制备方法。本发明所提供的光学薄膜能够增强CCD的紫外响应能力，并且能够消弱荧光材料层的自吸收，增加荧光材料层的发光效率和CCD接收的有效发光能量，且该光学薄膜的制备方法较为简单，成本较低，易于实现批量生产，适合工业应用。

公开(公告)号：CN103943646A

公开(公告)日：2014-07-23

申请号：CN201410165934.0

申请日：2014-04-23

申请人： 上海理工大学

发明人： 崔潇 ,  陶春先 ,  何梁 ,  洪瑞金 ,  张大伟

IPC分类号： H01L27/148 ,  H01L21/339

摘要： 本发明提供了一种能够增强电荷耦合元件紫外响应能力的光学薄膜，包括：镀在电荷耦合元件的紫外接收面上的底部反射镜、镀在底部反射镜表面的荧光材料层、以及镀在荧光材料层表面的顶部反射镜，其中，顶部反射镜从荧光材料层向外依次由九层高折射率材料层和八层低折射率材料层交替重叠构成，底部反射镜依次由六层高折射率材料层和五层低折射率材料层交替重叠组成。本发明还提供了该光学薄膜的制备方法。本发明所提供的光学薄膜能够增强CCD的紫外响应能力，并且能够消弱荧光材料层的自吸收，增加荧光材料层的发光效率和CCD接收的有效发光能量，且该光学薄膜的制备方法较为简单，成本较低，易于实现批量生产，适合工业应用。

公开(公告)号：CN203651096U

公开(公告)日：2014-06-18

申请号：CN201420000653.5

申请日：2014-01-02

申请人： 上海理工大学

发明人： 崔潇 ,  陶春先 ,  何梁 ,  洪瑞金 ,  张大伟

IPC分类号： B32B9/04 ,  B32B33/00

摘要： 本实用新型涉及一种防止硅基探测器荧光材料受潮降解的阻隔膜，包括由下到上贴合的底部阻隔膜、内层阻隔膜、顶部阻隔膜三层隔膜，内层阻隔膜内包裹着荧光材料，底部阻隔膜和顶部阻隔膜均由高、低折射率介质膜交替组合而成，内层阻隔膜为高折射率介质膜。荧光层完全处在阻隔膜的保护之内，防潮并显著地提高了荧光材料的工作寿命。