本实用新型公开了一种真空吸附的加热退火装置，包括：加热平台，具有沿周向布置的密封圈，密封圈凸出加热平台的表面并用于支撑基板，基板在加热平台上的竖直投影能够完全遮挡密封圈；真空吸附组件，设置在加热平台上，密封圈饶设在真空吸附组件外侧，真空吸附组件吸附基板时密封圈受压与加热平台平齐。通过真空吸附基板，以使基板靠近加热平台，使基板挤压密封圈，密封圈受压变形，直至基板与加热平台紧密接触，由于密封圈的密封作用，可使加热平台与基板之间密封连接，避免了密封不严，真空吸盘组件吸附时吸附效果不稳定的问题，从而形成良好的热传导，并且受热均匀，避免因接触不良导致受热不均从而产生的翘曲应变和裂片的问题。