本实用新型提供了一种晶圆清洗装置，包括机架、活动支架和清洗结构。活动支架可移动地设置在机架上，适于相对机架在第一方向和第二方向往复运动。清洗结构包括第一刷体，第一刷体通过第一驱动机构设置在活动支架上，第一驱动机构适于带动第一刷体相对活动支架转动。其中，第一刷体具有朝向晶圆的第一清洁面，第一清洁面的边缘设置有第一凹槽。利用本实用新型提供的晶圆清洁装置可以避免颗粒团聚现象的出现，提高清洁效果，并且第一刷体的结构可以做小，从而能够降低清洁成本。