外观设计
- 专利标题: 荧光X射线薄膜厚度测量仪
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申请号: CN201530192884.0申请日: 2015-06-12
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公开(公告)号: CN303506184S公开(公告)日: 2015-12-16
- 设计人: 增田蓝 , 能田弘行 , 高原稔幸 , 野泽良卫 , 八木勇夫
- 申请人: 日本株式会社日立高新技术科学
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 日本株式会社日立高新技术科学
- 当前专利权人: 日本株式会社日立高新技术科学
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京银龙知识产权代理有限公司
- 代理商 丁文蕴; 许凯
- 优先权: 2014-027855 2014.12.12 JP
- LOC分类号: 10-05
摘要:
1.本外观设计产品的名称:荧光X射线薄膜厚度测量仪。2.本外观设计产品的用途:本外观设计产品用于通过使用设置在检测室内的X射线照射器所射出的X射线,可以检测半导体、电子产品以及印刷电路板等使用的电镀或蒸镀的金属薄膜的厚度及组成。3.本外观设计产品的设计要点:本外观设计产品的形状。4.最能表明本外观设计设计要点的图片或照片:立体图。5.在示出各部名称参考图中,B-电源按钮,C-键式开关,D-开闭盖,E-指示部,F-检测室。在示出透明部分参考图和示出各部名称参考图中,斜线部分为透明。