发明授权
- 专利标题： A method of manufacturing a diffraction grating structure
- 专利标题（中）： 一种制造衍射结构的方法
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申请号： EP79102442.5申请日： 1979-07-16
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公开(公告)号： EP0007108B1公开(公告)日： 1983-04-13
- 发明人: Fujii, Yohji , Minowa, Junichiro
- 申请人： Nippon Telegraph and Telephone Public Corporation
- 申请人地址： 1-6 Uchisaiwai-cho 1-chome Chiyoda-ku Tokyo 100 JP
- 专利权人： Nippon Telegraph and Telephone Public Corporation
- 当前专利权人： Nippon Telegraph and Telephone Public Corporation
- 当前专利权人地址： 1-6 Uchisaiwai-cho 1-chome Chiyoda-ku Tokyo 100 JP
- 代理机构： Wenzel, Heinz-Peter, Dipl.-Ing.
- 优先权： JP87344/78 19780718; JP40517/79 19790404; JP41669/79 19790406
- 主分类号： G02B5/18
- IPC分类号： G02B5/18 ; H01L21/308
公开/授权文献
- EP0007108A1 A method of manufacturing a diffraction grating structure 公开/授权日：1980-01-23
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