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EP0025578A1 Verfahren und Vorrichtung zur Regelung eines magnetischen Ablenksystems 失效
一种用于控制磁偏转系统的方法和装置。

Verfahren und Vorrichtung zur Regelung eines magnetischen Ablenksystems
摘要：
Um bei Elektronenstrahlschreibern bei der Belichtung von Halbleiter-Wafern kurze Schreibzeiten zu erreichen, ist ein schnelles und hochgenaues Ablenksystem für den Elektronenstrahl erforderlich. Um bei Verwendung eines magnetischen Ablenksystems Regelverzögerungen durch Wirbelströme zu vermeiden, ist erfindungsgemäss eine kombinierte Regelung vorgesehen. Im statischen Fall erfolgt die Regelung allein über die Messung des Spulenstromes. Bei Sollwert-Änderungen wird ein der Magnetfeld-änderung proportionales Signal erzeugt und mit dem differenzierten Sollwert verglichen. Der Vergleichswert stellt das zusätzliche Regelsignal dar, das entweder auf den Spulenstrom oder über Zusatzspulen direkt auf das Magnetfeld einwirkt.
摘要（中）：

为了实现在半导体晶片的曝光电子束作家短的写入时间，需要电子束的快速和高精度的偏转。 为了，为了避免使用磁偏转系统的延迟一般是由于涡流根据本发明是提供了一种组合的控制。 在静态情况下，控制是在线圈电流的测量只进行。 对于设定值发生变化时产生的，并与成比例的微分设定值信号进行比较的磁场变化。 比较值表示作用于任一线圈电流或磁场辅助线圈的附加控制信号。

摘要（英）：

In order to achieve short write times in electron beam writers in the exposure of semiconductor wafers, a fast and highly precise deflection system for the electron beam is required. To avoid using a magnetic deflection system usually delays due to eddy currents, according to the invention there is provided a combined regulation. In the static case, the control is carried out solely on the measurement of the coil current. For setpoint changes a magnetic field of the change-proportional signal is generated and compared with the differentiated set value. The comparable figure represents the additional control signal which acts directly on the magnetic field either on the coil current or auxiliary coils.

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