发明授权
- 专利标题： Photosensitive composition and pattern-forming method
- 专利标题（中）： 光敏组合物和图案形成方法
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申请号： EP80303760.5申请日： 1980-10-23
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公开(公告)号： EP0028486B1公开(公告)日： 1984-03-14
- 发明人: Hayashi, Nobuaki , Akagi, Motoo , Miura, Kiyoshi , Odaka, Yoshiyuki
- 申请人： Hitachi, Ltd.
- 申请人地址： 5-1, Marunouchi 1-chome Chiyoda-ku, Tokyo 100 JP
- 专利权人： Hitachi, Ltd.
- 当前专利权人： Hitachi, Ltd.
- 当前专利权人地址： 5-1, Marunouchi 1-chome Chiyoda-ku, Tokyo 100 JP
- 代理机构： Paget, Hugh Charles Edward
- 优先权： JP136413/79 19791024
- 主分类号： G03C1/70
- IPC分类号： G03C1/70 ; G03F7/08
公开/授权文献
- EP0028486A1 Photosensitive composition and pattern-forming method 公开/授权日：1981-05-13
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