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EP0092088A2 Anordnung zur Anpassung von pulsformenden Netzwerken an die Erfordernisse des Anregungskreises eines TE-Hochenergielasersystems 失效
安排用于适配脉冲整形网络，以高能量TE激光系统的激励电路的要求。

  • 专利标题： Anordnung zur Anpassung von pulsformenden Netzwerken an die Erfordernisse des Anregungskreises eines TE-Hochenergielasersystems
  • 专利标题（英）： Arrangement for adapting pulse shaping networks to the requirements of the excitation circuit of a high-energy TE laser system
  • 专利标题（中）： 安排用于适配脉冲整形网络，以高能量TE激光系统的激励电路的要求。
  • 申请号： EP83103252.9
    申请日： 1983-03-31
  • 公开(公告)号： EP0092088A2
    公开(公告)日： 1983-10-26
  • 发明人: Cirkel, Hans-Jürgen, Dr. , Bette, Willi
  • 申请人： SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT
  • 申请人地址： Wittelsbacherplatz 2 80333 München DE
  • 专利权人： SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT
  • 当前专利权人： SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT
  • 当前专利权人地址： Wittelsbacherplatz 2 80333 München DE
  • 优先权： DE3214062 19820416; DE3232024 19820827
  • 主分类号： H01S3/097
  • IPC分类号： H01S3/097
Anordnung zur Anpassung von pulsformenden Netzwerken an die Erfordernisse des Anregungskreises eines TE-Hochenergielasersystems
摘要：
Anordnung zur Anpassung von pulsformenden Netzwerken an die Erfordernisse des Anregungskreises eines TE-Hochenergielasersystems, das mit Anregung durch möglichst homogene lichtbogenfreie Kondensatorentladung im Gasraum einer Laserkammer (LK) zwischen mindestens zwei mit Abstand einander gegenüberliegenden Laser-Elektroden (E L1 , E L2 ) arbeitet. Dabei ist bei einem pulsformenden Netzwerk (PFN) in Blümlein-Schaltung und bei gegebener maximaler Anstiegszeit (t R ) der den Laser-Elektroden zugeführten Hochspannung die Kapazität des ersten Bandleiterkondensators (C F ) im Vergleich zur Kapazität des zweiten Bandleiterkondensators (C K ) um den Faktor k F ) in Serie liegenden Ersatzinduktivität (L F ) dementsprechend etwa um den Faktor k vergrößert. Dadurch kann eine Schonung des schnellen Hochspannungsschalters, eine kurze Anstiegszeit der den Laser-Elektroden zuzuführenden Hochspannung und eine gute Ausnutzung der in das pulsformende Netzwerk (PFN) hineingesteckten Energie erreicht werden. Auch für ein pulsformendes Netzwerk in Charge-Transfer-Schaltung wird eine Bemessungsregel zur Erreichung der genannten Vorteile angegeben.
摘要（中）：

安排用于适配脉冲整形网络，以通过如均质如在至少两个间隔开的相对的激光电极（EL1，EL2）之间的激光腔（LK）的气体空间可能无电弧电容器放电以激发操作TE高能激光系统的激励电路的要求。 在这种情况下，一个脉冲形成网络（PFN）在布鲁姆林电路，并且给定的最大上升时间（TR）由k的系数供给高电压，所述第一带状导体电容器（CF）的相比，所述第二带状导体电容器（CK）的电容的电容激光电极的 <1降低，并且串联连接的等效电感（LF）的电容器（CF）的电感相应的一个因素大致（1 / k）的增加而增加。 这可以实现快速Höchspannungsschalters的保护，激光电极的短的上升时间要提供给高电压和的脉冲形成网络（PFN）它们的总能量在一个良好的利用率。 即使对于在电荷转移电路的脉冲形成网络，设计规则，以便实现这些优点指定。

摘要（英）：

Arrangement for adjustment of pulse forming networks to the requirements of the excitation circuit of a TE-high energy laser system that operates with excitation by homogeneous as possible arc-free capacitor discharge in the gas space of a laser chamber (LK) between at least two spaced opposed laser electrodes (E L1, E L2). In this case, in a pulse-forming network (PFN) in Blumlein circuit and given a maximum rise time (t R) of the laser electrodes supplied high voltage, the capacitance of the first strip conductor capacitor (C F) in comparison to the capacitance of the second strip conductor capacitor (C K) to a factor k <1 lowered, and the inductance of the said capacitor (C F) connected in series lying equivalent inductance (L F) accordingly increased approximately by a factor k. Thereby, protecting the fast high-voltage switch, a fast rise time of the laser electrodes supplied high voltage and a good utilization of in the pulse-forming network (PFN) their total energy can be achieved. Even for a pulse-forming network in charge-transfer circuit a dimensioning rule is specified to achieve the stated benefits.

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