发明公开
- 专利标题： Coating process
- 专利标题（中）： 涂装工艺
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申请号： EP85301250申请日： 1985-02-25
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公开(公告)号： EP0154482A3公开(公告)日： 1988-03-23
- 发明人: Heinecke, Rudolf August Herbert , Ojha, Suresh Mishrilal
- 申请人： STC PLC
- 专利权人： STC PLC
- 当前专利权人： STC PLC
- 优先权： GB8405649 19840303
- 主分类号： C23C16/02
- IPC分类号： C23C16/02 ; C03C25/02
摘要：
A substrate surface, e.g. an electrical component or an optical fibre, is provided with a film coating by pulsed plasma deposition. The film comprises a lower layer com- patFble with the substrate and an upper layer that provides hermeticity. There is a graded transition between the layers.
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