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EP0230617A1 Dispositif pour former un bain d'un matériau semi-conducteur fond afin d'y faire croître un élément cristallin 失效
装置，用于显示现有的半导体材料熔化用于制造液晶元件。

Dispositif pour former un bain d'un matériau semi-conducteur fond afin d'y faire croître un élément cristallin
摘要：
Il comporte un récipient d'alimentation (10) dont le fond est muni d'une ouverture (14), des moyens d'alimentation (15 à 17) du récipient (10) en silicium solide et des moyens de chauffage (11 à 13) du récipient, celui-ci étant placé au dessus d'un creuset (1) contenant le bain (8) pour que le silicium liquide du récipient (10) s'écoule par l'ouver­ture (14) dans le creuset (1) lorsque le niveau (h) de silicium liquide dans le récipient atteint une valeur maximale (20), cet écoulement s'ar­rêtant lorsque le niveau (h) est descendu à une valeur minimale (22).
Application au dépôt d'une couche de silicium polycristallin sur un ruban de carbone.
摘要（英）：

It comprises a supply container (10) whose bottom is provided with an opening (14), feed means (15 to 17) of the container (10) in solid silicon and heating means (11-13 ) of the container, the latter being situated above a crucible (1) containing the bath (8) for the liquid silicon from the container (10) flows through the opening (14) in the crucible (1) when the level (h) of liquid silicon in the vessel reaches a maximum value (20), this flow stopping when the level (h) is lowered to a minimum value (22). Application to the deposition of a polycrystalline silicon layer on a carbon tape.

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