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EP0274075A2 Polyvinylacetal, dieses enthaltendes lichtempfindliches Gemisch und daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial 失效
聚乙烯醇缩醛，由此生产该含光敏组合物和记录材料。

  • 专利标题： Polyvinylacetal, dieses enthaltendes lichtempfindliches Gemisch und daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
  • 专利标题（英）： Polyvinyl acetal, light-sensitive composition containing it and reproduction material made therefrom
  • 专利标题（中）： 聚乙烯醇缩醛，由此生产该含光敏组合物和记录材料。
  • 申请号： EP87118277.0
    申请日： 1987-12-10
  • 公开(公告)号： EP0274075A2
    公开(公告)日： 1988-07-13
  • 发明人: Pawlowski, Georg, Dr.
  • 申请人： HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
  • 申请人地址： 65926 Frankfurt am Main DE
  • 专利权人： HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
  • 当前专利权人： HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
  • 当前专利权人地址： 65926 Frankfurt am Main DE
  • 优先权： DE3644162 19861223
  • 主分类号： C08F8/28
  • IPC分类号： C08F8/28 ;  G03C1/00 ;  G03F7/00
Polyvinylacetal, dieses enthaltendes lichtempfindliches Gemisch und daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
摘要：
Es wird ein Polyvinylacetal beschrieben, das 4 bis 40 mol-% Vinylalkohol-, 1 bis 20 mol-% Vinylacetat-, 0 bis 85 mol-% Vinylacetaleinheiten aus einem von OH-­Gruppen freien und 1 bis 85 mol-% Vinylacetaleinheiten aus einem OH-Gruppen enthaltenden Aldehyd enthält. Das Polymere ist als Bindemittel für lichtempfindliche Gemische, insbesondere für die Herstellung von Druck­platten und Photoresists, geeignet. Die damit erhalte­nen Schichten lassen sich mit neutralen oder schwach alkalischen rein wäßrigen Lösungen entwickeln und ergeben Druckplatten mit hoher Auflagenleistung und guter Farbannahme.
摘要（中）：

上述聚乙烯醇缩醛含有4至40摩尔％的乙烯醇单元的，从1到20摩尔％的醋酸乙烯酯单元，0〜85摩尔％的自醛，不含有OH基团衍生的乙烯醇缩醛单元和从 1〜85摩尔％的自醛，含OH基的衍生乙烯醇缩醛单元。 该聚合物适合作为光敏混合物用于生产印刷板和光致抗蚀剂构成的粘合剂，尤其如此。 使用该聚合物获得的涂层可以用中性或微碱性，纯粹wässrige解决方案和给印版哪些是适合长时间印刷过程，并且具有良好的油墨接受来开发。

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