发明授权
- 专利标题： Vapor-phase deposition apparatus
- 专利标题（中）： 用于气相沉积的装置
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申请号： EP91302357.8申请日： 1991-03-19
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公开(公告)号： EP0448346B1公开(公告)日： 1997-07-09
- 发明人: Sato, Yuusuke, c/o Intellectual Property Division , Ohmine, Toshimitsu, c/o Intellectual Property Div.
- 申请人： KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
- 申请人地址： 72, Horikawa-cho, Saiwai-ku Kawasaki-shi, Kanagawa-ken 210 JP
- 专利权人： KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
- 当前专利权人： KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
- 当前专利权人地址： 72, Horikawa-cho, Saiwai-ku Kawasaki-shi, Kanagawa-ken 210 JP
- 代理机构： Freed, Arthur Woolf
- 优先权： JP66935/90 19900319
- 主分类号： C23C16/44
- IPC分类号： C23C16/44 ; C23C16/46
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