发明授权
- 专利标题： Method and apparatus for manufacture of X-ray mask
- 专利标题（中）： 用于制造X光掩模的方法和装置
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申请号： EP91302988.0申请日： 1991-04-04
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公开(公告)号： EP0453133B1公开(公告)日： 1997-07-09
- 发明人: Fujioka, Hidehiko , Miyachi, Takeshi , Chiba, Yuji , Mizusawa, Nobutoshi , Kariya, Takao , Uzawa, Shunichi , Fukuda, Yasuaki
- 申请人： CANON KABUSHIKI KAISHA
- 申请人地址： 30-2, 3-chome, Shimomaruko, Ohta-ku Tokyo JP
- 专利权人： CANON KABUSHIKI KAISHA
- 当前专利权人： CANON KABUSHIKI KAISHA
- 当前专利权人地址： 30-2, 3-chome, Shimomaruko, Ohta-ku Tokyo JP
- 代理机构： Beresford, Keith Denis Lewis
- 优先权： JP94937/90 19900412
- 主分类号： G03F1/14
- IPC分类号： G03F1/14
公开/授权文献
- EP0453133A3 Method and apparatus for manufacture of X-ray mask 公开/授权日：1992-05-27
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