发明公开
EP0534273A1 Verfahren zur Erzeugung eines Bottom-Resists
失效
Verfahren zur Erzeugung eines Bottom-Resists。
- 专利标题： Verfahren zur Erzeugung eines Bottom-Resists
- 专利标题（英）： Method for producing a bottom-resist
- 专利标题（中）： Verfahren zur Erzeugung eines Bottom-Resists。
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申请号： EP92115715.2申请日： 1992-09-14
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公开(公告)号： EP0534273A1公开(公告)日： 1993-03-31
- 发明人: Leuschner, Rainer, Dr. , Sezi, Recai, Dr. , Sebald, Michael, Dr.
- 申请人： SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT
- 申请人地址： Wittelsbacherplatz 2 D-80333 München DE
- 专利权人： SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT
- 当前专利权人： SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT
- 当前专利权人地址： Wittelsbacherplatz 2 D-80333 München DE
- 优先权： DE4132313 19910927
- 主分类号： G03F7/09
- IPC分类号： G03F7/09 ; G03F7/095 ; G03F7/038
摘要：
Ein Bottom-Resist für ein Zweilagen-O₂/RIE-System erfüllt dann alle an einen derartigen Resist gestellten Anforderungen, wenn er in der Weise erzeugt wird, daß auf ein Substrat eine Lackschicht aus einem aromatenhaltigen Basispolymer, einem Vernetzer und einem Säurebildner aufgebracht wird, daß die Lackschicht - zur Freisetzung einer starken Säure aus dem Säurebildner im Oberflächenbereich der Schicht - flutbelichtet wird, und daß thermisch gehärtet wird.
公开/授权文献
- EP0534273B1 Verfahren zur Erzeugung eines Bottom-Resists 公开/授权日：1996-05-15
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