Procédé d'isolement de zones actives d'un substrat semi-conducteur par tranchées peu profondes quasi-planes

发明授权

EP0673062B1 Procédé d'isolement de zones actives d'un substrat semi-conducteur par tranchées peu profondes quasi-planes 失效

标题翻译：用于在半导体衬底的有源区隔离的方法具有浅沟槽平面化

专利标题： Procédé d'isolement de zones actives d'un substrat semi-conducteur par tranchées peu profondes quasi-planes
专利标题（英）： Isolation process for active zones of a semiconductor substrate using shallow planarised trenches
专利标题（中）： 用于在半导体衬底的有源区隔离的方法具有浅沟槽平面化
申请号： EP95400513.8

申请日： 1995-03-10
公开(公告)号： EP0673062B1

公开(公告)日： 2002-09-11
发明人: Paoli, Maryse , Brouquet, Pierre , Haond, Michel
申请人： FRANCE TELECOM
申请人地址： 6, Place d'Alleray 75015 Paris FR
专利权人： FRANCE TELECOM
当前专利权人： FRANCE TELECOM
当前专利权人地址： 6, Place d'Alleray 75015 Paris FR
代理机构： Casalonga, Axel
优先权： FR9402871 19940311
主分类号： H01L21/762
IPC分类号： H01L21/762

公开/授权文献

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IPC分类:

H	电学
H01	基本电气元件
H01L	半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中使用的半导体器件见应用相关的小类）
H01L21/00	专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/70	.由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造（由预制电组件组成的组装件的制造入H05K3/00，H05K13/00）
H01L21/71	..限定在组H01L21／70中的器件的特殊部件的制造（H01L21/28，H01L21/44，H01L21/48优先）
H01L21/76	...组件间隔离区的制作
H01L21/762	....介电区