Es werden Verbindungen der allgemeinen Formel I

        (SIL - X-) m IN     (I),

worin

SIL ein Rest der Formel Si(R¹)(R²)(R³)
wobei

R¹ ein Alkyl-, Halogenalkyl- oder Alkoxyrest mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, ein Alkenylrest, ein Alkenyloxy- oder Acyloxyrest mit 2 bis 8 Kohlenstoffatomen, ein Aryl- oder Aryloxyrest mit 6 bis 10 Kohlenstoffatomen, ein Dialkyl-, Diaryl- oder Alkylaryl-methylenaminooxyrest mit C₁-C₄-Alkyl- oder C₆-Arylgruppen ist und
R² und R³ gleiche oder verschiedene Reste der Bedeutung von R¹ oder X - IN sind
X C n H 2n ,
IN der Rest einer als Photoinitiator bzw. Photosensibilisator wirksamen Verbindung mit mindestens einer an einem aromatischen Kern stehenden Carbonylgruppe,
m eine Zahl von 1 bis 4 und
n eine Zahl von 2 bis 12 bedeutet,
oder der allgemeinen Formel II

        Si o O o-1 (-X-IN) p R⁴ 2o+2-p      (II)

vorgeschlagen, worin

R⁴ ein Rest der Bedeutung von R¹ ist und mehrere R⁴ untereinander gleich oder verschieden sein können,
o eine Zahl von 2 bis 20000 und
p eine Zahl von 1 bis o ist,
und die Symbole X und IN die vorstehend angegebene Bedeutung haben,
wobei die Gruppe X an ein zur Carbonylgruppe von IN orthoständiges aromatisches Kohlenstoffatom gebunden ist.
Die Verbindungen werden durch Umsetzen einer Verbindung IN - H mit einer Verbindung SIL - X' oder einer Verbindung Si o O o-1 (-X') p R⁴ 2o+2-p in Gegenwart einer Rutheniumverbindung hergestellt. Sie sind als radikalbildende Photoinitiatoren oder als Photosensibilisatoren in Silikonen enthaltenden photopolymerisierbaren Gemischen, insbesondere für die Herstellung wasserlos druckender Flachdruckplatten, geeignet.