发明授权
- 专利标题： TROCKENENTWICKELBARER POSITIVRESIST
- 专利标题（英）： Dry-developable positive resist
- 专利标题（中）： 干显影正性光刻胶
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申请号： EP95918519.0申请日： 1995-05-11
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公开(公告)号： EP0760971B1公开(公告)日： 1999-08-04
- 发明人: SEZI, Recai , LEUSCHNER, Rainer , BORNDÖRFER, Horst , RISSEL, Eva-Maria , SEBALD, Michael , AHNE, Hellmut , BIRKLE, Siegfried , KÜHN, Eberhard
- 申请人： SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT
- 申请人地址： Wittelsbacherplatz 2 80333 München DE
- 专利权人： SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT
- 当前专利权人： SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT
- 当前专利权人地址： Wittelsbacherplatz 2 80333 München DE
- 优先权： DE4418205 19940525
- 国际公布： WO9532455 19951130
- 主分类号： G03F7/038
- IPC分类号： G03F7/038
摘要：
A dry-developable positively acting TSI resist contains the following components: a suitable solvent; a strong acid former as the photo-active component; and a basic polymer in the form of a copolymer or terpolymer with maleic acid anhydride as a basic component and glycidyl methacrylate and/or a styrene derivative as a further component and possibly an additive.
公开/授权文献
- EP0760971A1 TROCKENENTWICKELBARER POSITIVRESIST 公开/授权日：1997-03-12
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